[发明专利]一种稀土掺杂型荧光印迹聚合物的制备方法

摘要

本发明一种稀土掺杂型荧光印迹聚合物的制备方法，属环境功能材料制备技术领域。首先在硅球表面修饰2,2’-联吡啶-4,4’-二羧酸，以合成的Eu(TTA)3（TTA:2-噻吩甲酰三氟丙酮）通过配体交换的方法共价连接在硅球表面，随后以制得的铕配合物修饰的硅球作为稳定剂，利用皮克林乳液聚合法合成了以三氟氯氰菊酯为模板分子，甲基丙稀酸为功能单体，乙二醇二(甲基丙烯酸)酯(EGDMA)为交联剂，2,2'-偶氮二已丁腈（AIBN）为引发剂的荧光分子印迹聚合物，并用于光学检测三氟氯氰菊酯。制备的荧光分子印迹聚合物具有很好的单分散性和均一的尺寸，高的光学和pH稳定性，且具有选择性识别三氟氯氰菊酯的能力。

主权项

一种稀土掺杂型荧光印迹聚合物的制备方法，其特征在于按照下述步骤进行：(1)称取十六烷基三甲基溴化铵CTAB溶于的水中，再加入质量浓度为28% NH3·H2O 和乙二醇乙醚，不断搅拌下逐滴加入正硅酸乙酯TEOS，继续搅拌24 h;所得的白色沉淀离心分离，并分别用乙醇、水洗，于60oC烘干；将所制得的硅球放入马弗炉中以2oC/min程序升温至550oC并保持5 h以除去CTAB制得多孔的二氧化硅；（2）多孔二氧化硅表面氨基化mSiO2‑NH2：将上述制得的多孔二氧化硅分散于的甲苯溶液中，不断搅拌下逐滴加入3‑(异丁烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷KH‑550,回流24 h；乙醇洗涤、烘干备用；（3）多孔二氧化硅表面接枝2,2’‑联吡啶‑4,4’‑二羧酸mSiO2‑Bpc：A、先取表面氨基化的多孔二氧化硅mSiO2‑NH2分散于含10% DMF 的水溶液中待用；再取2,2’‑联吡啶‑4,4’‑二羧酸Bpc溶于浓度为100mmol/L, pH为6啉乙磺酸的缓冲溶液中，加入浓度为20 mmol/L 的1‑乙基‑(3‑二甲基氨基丙基)碳二亚胺盐酸盐和浓度为20mmol/L N‑羟基硫代琥珀酰亚胺活化,1 h后，调节pH值为8并迅速加入到A的溶液中，室温搅拌24 h；将产物重新分散于DMSO中，用0.22 µm聚苯乙烯膜过滤；重复2次，最后用体积比为10:1的二氯甲烷和甲醇的混合溶液，除去过量的Bpc，乙醇，水洗，真空烘干；（4）稀土铕配合物修饰的多孔二氧化硅mSiO2‑Eu(TTA)3Bpc：先取2‑噻吩甲酰三氟丙酮TTA溶于乙醇溶液中，室温搅拌下滴加NaOH调节pH值为8，然后逐滴加入浓度为0.05mol/L的氯化铕的乙醇溶液，继续反应1 h，待充分沉淀后，乙醇洗涤，真空烘干，制得Eu(TTA)3(H2O)2，再按摩尔比为1:1称取Eu(TTA)3(H2O)2和2,2’‑联吡啶‑4,4’‑二羧酸修饰的多孔二氧化硅mSiO2‑Bpc, 溶于氯仿中，室温搅拌24 h；用旋转蒸发器出去氯仿，得白色粉末，乙醇洗涤、烘干；（5）荧光分子印迹聚合物的制备mSiO2‑Eu(TTA)3Bpc@MIPs    在水中加入甲基丙烯酸MAA和稀土配合物修饰的多孔二氧化硅mSiO2‑Eu(TTA)3Bpc超声分散，并加入乙二醇二(甲基丙烯酸)酯EGDMA、2,2'‑偶氮二已丁腈AIBN和三氟氯氰菊酯LC，继续超声5‑10 min，形成水包油的乳液；通N2 30min后，70oC反应12‑24 h；产物用水和乙醇洗涤3次；然后产物用体积比为80:20的甲醇和乙腈的混合液为提取液索式提取48 h，脱除模板分子LC，在50oC下真空干燥。