[发明专利]一种有机发光微型显示器抗反射层清洗剂及清洗工艺有效
| 申请号： | 201310114845.9 | 申请日： | 2013-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN103242985A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 朱亚安;杨炜平;郑云;段瑜;王金义 | 申请（专利权）人： | 云南北方奥雷德光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/32;C11D7/26;B08B3/08 |
| 代理公司： | 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 | 代理人： | 和琳 |
| 地址： | 650000 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及有机发光领域，尤其是有机发光显示器制造过程中的剥离清洗工艺及其光刻返工工艺中使用的清洗剂。这种清洗剂用N-甲基吡咯烷酮、异丙醇与有机胺类溶液按照体积比为15：4：1~15：4：4混合而成，用这种有机发光微型显示器抗反射层清洗剂进行清洗的步骤包括：制备清洗剂，将阳极剥离后的有机发光显示器IC片或待返工片放入抗反射层清洗液中，在温度15~25℃下浸泡3-15分钟，让抗反射层溶解；将经过阳极剥离后的有机发光显示器IC片或待返工片放入异丙醇中浸泡5-20分钟，去除残留的光刻胶、N-甲基吡咯烷酮以及有机胺；依次使用异丙醇、纯水及兆声清洗有机发光显示器IC片或待返工片。具有清洗完全、无腐蚀、无残留的优点，尤其适用于有机发光显示器的阳极抗反射层清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有机 发光 微型 显示器 反射层 洗剂 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
一种有机发光微型显示器抗反射层清洗剂，其特征在于用N‑甲基吡咯烷酮、异丙醇与有机胺类溶液按照体积比为15：4：1~15：4：4混合而成。
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