[发明专利]一种有机发光微型显示器抗反射层清洗剂及清洗工艺有效
| 申请号： | 201310114845.9 | 申请日： | 2013-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN103242985A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 朱亚安;杨炜平;郑云;段瑜;王金义 | 申请（专利权）人： | 云南北方奥雷德光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/32;C11D7/26;B08B3/08 |
| 代理公司： | 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 | 代理人： | 和琳 |
| 地址： | 650000 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 有机 发光 微型 显示器 反射层 洗剂 清洗 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种有机发光微型显示器抗反射层清洗剂，其特征在于用N-甲基吡咯烷酮、异丙醇与有机胺类溶液按照体积比为15：4：1~15：4：4混合而成。
2.用权利要求1所述的有机发光微型显示器抗反射层清洗剂进行清洗的工艺，其特征在于包括如下步骤：
（1）将N-甲基吡咯烷酮、异丙醇与有机胺类溶液按照体积比为15：4：1~15：4：4混合，配制成抗反射层清洗液，将阳极剥离后的有机发光显示器IC片或待返工片放入抗反射层清洗液中，在温度15~25℃下浸泡3-15分钟，让抗反射层溶解；
（2）清洗残留的混合溶剂
i）将经过步骤（1）的阳极剥离后的有机发光显示器IC片或待返工片放入异丙醇中浸泡5-20分钟，去除残留的光刻胶、N-甲基吡咯烷酮以及有机胺；
ii）依次使用异丙醇、纯水及兆声清洗有机发光显示器IC片或待返工片。
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