[发明专利]一种电子水基清洗剂及其制备方法有效
申请号: | 201310110098.1 | 申请日: | 2013-03-29 |
公开(公告)号: | CN103194319A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 邱海波;肖德成 | 申请(专利权)人: | 深圳市同方电子新材料有限公司 |
主分类号: | C11D1/72 | 分类号: | C11D1/72;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/28;C11D3/38;C11D3/60;C11D1/831;H05K3/26 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 胡吉科;孙伟 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种电子水基清洗剂及其制备方法,按重量百分比,包括:乙二醇醚类20-50%、丙二醇醚25-40%、醇胺类15-25%、缓蚀剂0-0.5%、表面活性剂10-15%。本发明中的清洗剂,可以提高无铅焊接残留清洗效率,且符合环境友好要求,可安全通过多种检验应用。本发明的产品还用于SMT行业中,如PCBA、过炉治具、设备、网板、钢网等领域中,清洗具有优良的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 电子 水基清 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种电子水基清洗剂,其特征在于,按重量百分比,包括:乙二醇醚类20‑50%、丙二醇醚25‑40%、醇胺类15‑25%、缓蚀剂0‑0.5%:表面活性剂10‑15%。
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