[发明专利]一种电子水基清洗剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310110098.1 申请日: 2013-03-29
公开(公告)号: CN103194319A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 邱海波;肖德成 申请(专利权)人: 深圳市同方电子新材料有限公司
主分类号: C11D1/72 分类号: C11D1/72;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/28;C11D3/38;C11D3/60;C11D1/831;H05K3/26
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 代理人: 胡吉科;孙伟
地址: 518000 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 电子 水基清 洗剂 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种电子水基清洗剂,其特征在于,按重量百分比,包括:乙二醇醚类20-50%、丙二醇醚25-40%、醇胺类15-25%、缓蚀剂0-0.5%:表面活性剂10-15%。

2.如权利要求1所述的电子水基清洗剂,其特征在于,所述乙二醇醚类采用乙二醇单丁醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚中的一种或几种;所述丙二醇醚采用丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚中的一种或几种;所述醇胺类采用单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺和羟乙基乙二胺中的一种或几种;所述缓蚀剂采用苯并三氮唑、石油磺酸钡、葡聚糖和六亚甲基四胺中的一种或几种;表面活性剂采用AEO、NP、OP、TX和LAS中的一种或几种。

3.一种制备如权利要求1或2所述的电子水基清洗剂的方法,其特征在于,将所述乙二醇醚类、丙二醇醚、醇胺类、缓蚀剂和表面活性剂混合,搅拌均匀,加入带有搅拌的反应釜,搅拌反应后静止、冷却并过滤后得到电子水基清洗剂。

4.一种采用如权利要求1或2所述的电子水基清洗剂的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:将该清洗剂与水按质量比1:3至1:4兑水后加热至60-70℃,漂洗采用去离子水,温度为50至60℃;将过炉出来的PCBA放入清洗槽超声波后放入漂洗槽漂洗干净后烘干。

5.如权利要求4所述的电子水基清洗剂的清洗方法,其特征在于,所述超声的时间为5分钟。

6.如权利要求3所述的制备电子水基清洗剂的方法,其特征在于,所述搅拌温度为45℃。

7.如权利要求3所述的制备电子水基清洗剂的方法,其特征在于,所述搅拌速度为60r/min。

8.如权利要求3所述的制备电子水基清洗剂的方法,其特征在于,所述搅拌时间为30分钟。

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