[发明专利]用于化学机械抛光系统的载具头有效
申请号: | 201310095981.8 | 申请日: | 2013-03-25 |
公开(公告)号: | CN103358228A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 姜準模 | 申请(专利权)人: | 姜準模 |
主分类号: | B24B39/06 | 分类号: | B24B39/06 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开的为用于化学机械抛光系统的载具头。用于化学机械抛光系统的载具头包括:基座。具有外表面倚靠所述外表面基板可被安装的基板接收构件连接于基座的下侧部分。在基板接收构件内侧,至少两个气囊与基座的下侧部分连接。所述至少两个气囊可通过膨胀和接触内表面独立的施加压力于基板接收构件的内表面的预定区域。至少一个墙壁结构连接于基座的下侧部分,其中所述至少一个墙壁结构可限制所述至少两个气囊的横向膨胀。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 机械抛光 系统 载具头 | ||
【主权项】:
一种用于化学机械抛光系统的载具头,其特征在于,包括:基座;连接于基座的下侧部分的基板接收构件,所述基板接收构件具有外表面倚靠所述外表面基板可被安装;位于基板接收构件内侧并与基座的下侧部分连接的至少两个气囊,其中所述至少两个气囊可通过膨胀和接触内表面独立的施加压力于基板接收构件的内表面的预定区域;和连接于基座的下侧部分的至少一个墙壁结构,其中所述至少一个墙壁结构可限制所述至少两个气囊的横向膨胀。
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