[发明专利]基于有效辐射的材料高温光谱发射率测试系统有效
申请号: | 201310095139.4 | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN103196840A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 符泰然;段明皓;宗安州 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25;G01N21/35 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 100084 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及材料的热物性参数测试技术领域,尤其涉及一种基于有效辐射的材料高温光谱发射率测试系统。该测试系统包括水冷真空室、真空辐射加热单元、有效辐射腔体以及辐射测量与标定单元,通过水冷真空室、真空辐射加热单元、有效辐射腔体和辐射测量与标定单元相结合进行材料光谱发射率的测试,在测试过程中无需参考黑体源,无需预先精确知晓材料温度,降低了测试难度,提高了测试精度,通过将测试样品放置于真空水冷室内避免了测试样品的高温氧化问题。 | ||
搜索关键词: | 基于 有效 辐射 材料 高温 光谱 发射 测试 系统 | ||
【主权项】:
一种基于有效辐射的材料高温光谱发射率测试系统,其特征在于:其包括水冷真空室(1)、真空辐射加热单元、有效辐射腔体(5)以及辐射测量与标定单元,所述真空辐射加热单元固定设置在所述水冷真空室(1)内,所述有效辐射腔体(5)可移动地设置在所述真空辐射加热单元的一侧,测试样品设置在所述真空辐射加热单元和所述有效辐射腔体(5)之间,所述有效辐射腔体(5)靠近测试样品的一端设有大开口(6),所述有效辐射腔体(5)远离测试样品的一端设有小开口(7),所述水冷真空室(1)靠近所述小开口(7)的一端设置有光学窗口(8)且辐射测量时所述小开口(7)和所述光学窗口(8)相对,所述辐射测量与标定单元设置在所述水冷真空室(1)的外侧通过所述光学窗口(8)进行辐射测量和数据处理。
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