[发明专利]基于有效辐射的材料高温光谱发射率测试系统有效
申请号: | 201310095139.4 | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN103196840A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 符泰然;段明皓;宗安州 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25;G01N21/35 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 100084 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 有效 辐射 材料 高温 光谱 发射 测试 系统 | ||
1.一种基于有效辐射的材料高温光谱发射率测试系统,其特征在于:其包括水冷真空室(1)、真空辐射加热单元、有效辐射腔体(5)以及辐射测量与标定单元,所述真空辐射加热单元固定设置在所述水冷真空室(1)内,所述有效辐射腔体(5)可移动地设置在所述真空辐射加热单元的一侧,测试样品设置在所述真空辐射加热单元和所述有效辐射腔体(5)之间,所述有效辐射腔体(5)靠近测试样品的一端设有大开口(6),所述有效辐射腔体(5)远离测试样品的一端设有小开口(7),所述水冷真空室(1)靠近所述小开口(7)的一端设置有光学窗口(8)且辐射测量时所述小开口(7)和所述光学窗口(8)相对,所述辐射测量与标定单元设置在所述水冷真空室(1)的外侧通过所述光学窗口(8)进行辐射测量和数据处理。
2.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于:所述水冷真空室(1)的内壁具有冷却水夹层。
3.根据权利要求2所述的测试系统,其特征在于:所述水冷真空室(1)的内壁上和所述有效辐射腔体(5)的外壁具有吸收涂层。
4.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于:所述有效辐射腔体(5)的内壁上具有反射涂层。
5.根据权利要求4所述的测试系统,其特征在于:所述有效辐射腔体(5)的外壁上设置有冷却水盘管。
6.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于:所述真空辐射加热单元包括钨板(2)和设置在所述钨板(2)两端的大电流水冷电极(3)。
7.根据权利要求6所述的测试系统,其特征在于:所述钨板(2)上开设有槽(9)或孔。
8.根据权利要求1所述的测试系统,其特征在于:所述大开口(6)和所述小开口(7)为圆形,所述大开口(6)和所述小开口(7)的直径比大于3:1。
9.根据权利要求1-8任一项所述的测试系统,其特征在于:所述有效辐射腔体(5)通过设置在所述水冷真空室(1)内的电动平移滑台在三维方向上移动。
10.根据权利要求9所述的测试系统,其特征在于:所述辐射测量与标定单元包括可见-近红外光谱仪和数据处理模块,所述数据处理模块与所述可见-近红外光谱仪连接,用于样品表面辐射的测量以及样品发射率的标定计算。
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