[发明专利]有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料有效

专利信息
申请号: 201310094899.3 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN103319720A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 森谷浩幸 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C08G81/00 分类号: C08G81/00;C08G77/38;A61K8/894;A61Q19/00;A61Q1/00;A61Q5/12;A61Q1/06;A61Q1/10;A61Q1/12
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张永康;向勇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种由下述平均化学式(1)所表示的有机聚硅氧烷。由此,本发明提供一种有机聚硅氧烷,其可以形成乳化稳定性及经时稳定性优异且化妆持续性良好的化妆材料,并且提供一种对粉状体的分散特性优异的有机聚硅氧烷。在通式(1)中,R1分别独立为碳数1~12个的1价烃基,R2为氢原子、碳数1~15的1价烃基、及碳数1~6的1价酰基中的任一个,n为0~1000的整数,m为2或3,X为碳数2~15的2价烃基,m为2时,Y为C-CH2-CH3,m为3时,Y为碳原子,s为0~100的整数,t为0~50的整数,z为0~50的整数。
搜索关键词: 有机 聚硅氧烷 及其 制造 方法 化妆 材料
【主权项】:
1.一种由下述平均化学式(1)所表示的有机聚硅氧烷,在上述通式(1)中,R1分别独立为碳数1~12个的1价烃基,R2为氢原子、碳数1~15的1价烃基、及碳数1~6的1价酰基中的任一个,n为0~1000的整数,m为2或3,X为碳数2~15的2价烃基,m为2时,Y为下述式m为3时,Y为碳原子,s为0~100的整数,t为0~50的整数,z为0~50的整数。
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