[发明专利]有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料有效
| 申请号： | 201310094899.3 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN103319720A | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 森谷浩幸 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08G81/00 | 分类号： | C08G81/00;C08G77/38;A61K8/894;A61Q19/00;A61Q1/00;A61Q5/12;A61Q1/06;A61Q1/10;A61Q1/12 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张永康;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机 聚硅氧烷 及其 制造 方法 化妆 材料 | ||
【权利要求书】：
1.一种由下述平均化学式(1)所表示的有机聚硅氧烷，
在上述通式(1)中，R1分别独立为碳数1～12个的1价烃基，R2为氢原子、碳数1～15的1价烃基、及碳数1～6的1价酰基中的任一个，n为0～1000的整数，m为2或3，X为碳数2～15的2价烃基，m为2时，Y为下述式
m为3时，Y为碳原子，s为0～100的整数，t为0～50的整数，z为0～50的整数。
2.一种化妆材料，其特征在于，其含有权利要求1所述的有机聚硅氧烷。
3.一种有机聚硅氧烷的制造方法，其特征在于，其是在过渡金属催化剂存在下，使由下述平均化学式(2)所表示的化合物与由下述通式(3)所表示的化合物反应，
在上述通式(2)中，R1分别独立为碳数1～12个的1价烃基，n为0～1000的整数；
在上述通式(3)中，X'为末端具有碳-碳双键的碳数2～15的2价烃基，m为2或3，m为2时，Y为下述式
m为3时，Y为碳原子，R2为氢原子、碳数1～15的1价烃基、及碳数1～6的1价酰基中的任一个，s为0～100的整数，t为0～50的整数，z为0～50的整数。
4.如权利要求3所述的有机聚硅氧烷的制造方法，其中，前述过渡金属催化剂包含铂及铑中的至少1种。
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