[发明专利]石墨膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201310088092.9 | 申请日： | 2008-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN103193221A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 太田雄介;若原修平;西川泰司 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;B32B9/04;B32B27/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种石墨膜及其制造方法，所述石墨膜兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的制造方法的特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm2以上且100g／cm2以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种石墨膜的制造方法，其特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm2以上且100g／cm2以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。
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