[发明专利]石墨膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201310088092.9 | 申请日： | 2008-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN103193221A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 太田雄介;若原修平;西川泰司 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;B32B9/04;B32B27/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种石墨膜的制造方法，其特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm2以上且100g／cm2以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。
2.根据权利要求1所述的石墨膜的制造方法，其特征在于，所述原料膜为双折射Δn为0.08以上的聚酰胺膜。
3.根据权利要求1或2所述的石墨膜的制造方法，其特征在于，所述原料膜为在100～200℃的温度范围具有低于2.5×10－5／℃的平均线膨胀系数的聚酰胺膜。
4.根据权利要求1或2所述的石墨膜的制造方法，其特征在于，所述原料膜是在600～1800℃的温度下对高分子膜进行热处理而得到的碳化高分子膜。
5.根据权利要求1或2所述的石墨膜的制造方法，其特征在于，所述石墨化通过气氛加热法或通电加热法进行。
6.根据权利要求1或2所述的石墨膜的制造方法，其特征在于，包含进一步对经过所述石墨化的石墨膜进行面状加压的后面状加压工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社钟化，未经株式会社钟化许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310088092.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
