[发明专利]液处理装置有效

专利信息
申请号: 201310075206.6 申请日: 2013-03-08
公开(公告)号: CN103311155A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 江头浩司 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够以低运行成本来防止基板的挠曲和破损的液处理装置。本发明的液处理装置(10)包括:基板保持部(21),其能旋转,用于与基板(W)分开地从下方水平保持基板(W);以及旋转驱动部(25),其用于驱动基板保持部(21)而使基板保持部(21)旋转。在由基板保持部(21)保持着的基板(W)的上方设有用于朝向基板(W)供给空气的空气供给部(81)。空气供给路径(90)具有用于吸引自空气供给部(81)供给来的空气的吸引口(91),该空气供给路径(90)用于向形成在由基板保持部(21)保持着的基板(W)的下表面与基板保持部(21)之间的基板下方空间(96)供给自吸引口(91)吸引来的空气。
搜索关键词: 处理 装置
【主权项】:
一种液处理装置,其特征在于,该液处理装置包括:基板保持部,其能旋转,用于与基板分开地从下方水平保持基板;旋转驱动部,其用于驱动上述基板保持部而使上述基板保持部旋转;喷嘴,其用于对由上述基板保持部保持着的上述基板供给处理液;空气供给部,其设于由上述基板保持部保持着的上述基板的上方,用于朝向该基板供给空气;空气供给路径,其具有用于吸引自上述空气供给部供给来的空气的吸引口,该空气供给路径用于向形成在由该基板保持部保持着的该基板的下表面与该基板保持部之间的基板下方空间供给自上述吸引口吸引来的空气。
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