[发明专利]一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置

摘要

本发明公开了一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：氢原子发生器接口、电子枪、电子枪室、电子枪接口、曝光腔、冷却毛细管、试样台、试样台接口、气体引入设备、涡轮分子泵、前级泵、RGA、RGA接口、插板阀、放气阀、电阻规以及隔断阀，氢原子发生器接口、电子枪接口、试样台接口以及RGA接口均为开启，且固接在曝光腔上，电子枪接口与试样台接口对称设置在曝光腔的两侧，使得电子枪与试样台处于一条水平线上，氢原子发生器接口设置于腔体上方，且与电子枪接口的轴线垂直，RGA接口设置于实验装置的侧方。本发明能够解决现有装置中存在的不能同时实现光学表面污染和清洁实验功能、只有一套抽真空系统以及试样台不具备自由度的问题。

主权项

一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：电子枪、电子枪室、曝光腔、冷却毛细管、试样台、气体引入设备以及两套二级分子泵组，其特征在于，曝光腔上设置有氢原子发生器接口、电子枪接口、试样台接口以及RGA接口；电子枪接口与试样台接口对称设置在曝光腔的两侧，使得电子枪与试样台处于一条水平线上；氢原子发生器接口设置于腔体上方，且与电子枪接口的轴线垂直，其轴线与试样台处于同一平面上；电子枪与电子枪室连接，电子枪室通过电子枪接口连接到曝光腔；试样台通过试样台接口连接到曝光腔；RGA通过RGA接口连接到曝光腔；两套二级分子泵组分别与电子枪室和曝光腔相连接，用于将电子枪室和曝光腔抽取真空；气体引入设备通过管道与曝光腔相连，连接处设置于曝光腔的下部。