[发明专利]一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置

权利要求书

1.一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：电子枪、电子枪室、曝光腔、冷却毛细管、试样台、气体引入设备以及两套二级分子泵组，其特征在于，

曝光腔上设置有氢原子发生器接口、电子枪接口、试样台接口以及RGA接口；

电子枪接口与试样台接口对称设置在曝光腔的两侧，使得电子枪与试样台处于一条水平线上；

氢原子发生器接口设置于腔体上方，且与电子枪接口的轴线垂直，其轴线与试样台处于同一平面上；

电子枪与电子枪室连接，电子枪室通过电子枪接口连接到曝光腔；

试样台通过试样台接口连接到曝光腔；

RGA通过RGA接口连接到曝光腔；

两套二级分子泵组分别与电子枪室和曝光腔相连接，用于将电子枪室和曝光腔抽取真空；

气体引入设备通过管道与曝光腔相连，连接处设置于曝光腔的下部。

2.根据权利要求1所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，还包括冷却毛细管，其为单回程U形管，其设置于试样台上，并均匀排布在试样台底面。

3.根据权利要求1所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，电子枪室和曝光腔通过法兰相连，法兰处横向设置有一毛细管，用于连接电子枪室和曝光腔。

4.根据权利要求1所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，还包括温度传感器、压力传感器和真空计，其均设置于曝光腔内部的上方。

5.根据权利要求1所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，试样台垂直于电子束方向，且具有一个偏心转轴，其与电子束方向平行，并通过法兰上的动密封与外接电机相连。

6.根据权利要求5所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，试样台上有一遮挡板，遮挡板具有一个垂直于试样台方向的自由度，以实现压紧与松开功能，遮挡板上设有一小孔。

7.根据权利要求1所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，气体引入设备包括顺次相连的质量流量计、截止阀和气体罐，质量流量计的一端与曝光腔连接，另一端与截止阀的一端连接，截止阀的另一端与气体罐连接，质量流量计和截止阀二者配合，用于控制气体的通入量。

8.根据权利要求1所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，气体引入设备包括质量流量计、截止阀、过渡腔体、腔壁加热设备、截止阀和超纯水储存装置，质量流量计的一端与曝光腔连接，另一端与截止阀的一端连接，截止阀的另一端与过渡腔体的一端连接，腔壁加热设备设置于过渡腔体上，过渡腔体的另一端与截止阀的一端连接，截止阀的另一端与超纯水储存装置连接，超纯水储存装置用于通过截止阀向过渡腔体内通入液态水，缠绕腔壁加热设备用于对过渡腔体进行加热，以产生水蒸气，质量流量计和截止阀二者配合，用于控制过渡腔体内水蒸气的通入量。

9.一种极紫外光照射下的光学表面污染与清洁模拟装置，包括：氢原子发生器、曝光腔、冷却毛细管、试样台、气体引入设备以及一套二级分子泵组，其特征在于，

曝光腔上设置有氢原子发生器接口、试样台接口、电子枪接口以及RGA接口；电子枪接口与试样台接口对称设置在曝光腔的两侧；

氢原子发生器接口设置于腔体上方，且与电子枪接口的轴线垂直；

RGA接口设置于实验装置的侧方，其轴线与试样台处于同一平面上，试样台通过试样台接口连接到曝光腔；

RGA通过RGA接口连接到曝光腔；

二级分子泵组与曝光腔相连接，用于将曝光腔抽取真空；

气体引入设备通过管道与曝光腔相连，连接处设置于曝光腔的下部；

氢原子发生器与曝光腔通过氢原子发生器接口连接。

10.根据权利要求9所述的光学表面污染与清洁模拟装置，其特征在于，试验台处设置有一层陶瓷纤维隔热毡，用于防止高温对试验台以及试样的损害，在曝光腔的内壁上设置有冷凝管，用于对实验设备进行降温。