[发明专利]一种硅烷功能化剥层水滑石及其制备方法和应用无效
| 申请号： | 201310029772.3 | 申请日： | 2013-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN103071458A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 徐庆红;赵秀巧 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | B01J20/22 | 分类号： | B01J20/22;B01J20/30;C02F1/28;C02F1/62 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 何俊玲 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明内容提供了一种硅烷功能化剥层水滑石及其制备方法和应用，所述的硅烷功能化剥层水滑石是用N–(β–氨乙基)–γ–氨丙基三乙氧基硅烷（简写为KH–791）对剥层水滑石进行功能化修饰，其中KH–791与剥层水滑石单层板表面上的羟基通过Si–O–M（M代表水滑石上的金属离子）键相链接。该材料对Cr3+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+和Pb2+等过渡金属离子具有吸附性能，可用于工业废水中对这些过渡金属离子的去除。本发明提供的制备方法原料易得、操作简便、对设备要求低和安全性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅烷 功能 化剥层水 滑石 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种硅烷功能化剥层水滑石材料，是用N–(β–氨乙基)–γ–氨丙基三乙氧基硅烷（简写为KH–791）对剥层水滑石进行功能化修饰，其中KH–791与剥层水滑石单层板表面上的羟基通过Si–O–M（M代表水滑石上的金属离子）键相链接。
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