[发明专利]一种硅烷功能化剥层水滑石及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种硅烷功能化剥层水滑石材料，是用N–(β–氨乙基)–γ–氨丙基三乙氧基硅烷（简写为KH–791）对剥层水滑石进行功能化修饰，其中KH–791与剥层水滑石单层板表面上的羟基通过Si–O–M（M代表水滑石上的金属离子）键相链接。

2.一种制备权利要求1所述的硅烷功能化剥层水滑石材料的方法，具体步骤如下：

A．在N₂保护下，将镁铝水滑石与甲酰胺按1：200–1000质量比混合，于室温下剧烈搅拌10–24 小时，然后将混合物以9000–10000 转/分的转速高速离心，并将固体物冷冻干燥20–48 小时，所得固体即为剥层镁铝水滑石；所述镁铝水滑石化学式为：Mg₂Al–NO₃–LDH；

B．将完全干燥的剥层镁铝水滑石与甲苯按质量比为1：10–50混合，在N₂保护下110 ℃搅拌回流4–12 h，然后加入KH–791，剥层镁铝水滑石与KH-791质量比为1：1–3；在N₂保护下搅拌回流10–24 h，离心分离，用甲苯洗涤，常温干燥，既得到KH–791功能化剥层镁铝水滑石；所用的甲苯是经过脱水处理的，其水的质量百分含量小于0.001%。

3.一种权利要求1所述的硅烷功能化剥层水滑石材料的应用，用于去除工业废水中Cr³⁺、Mn²⁺、Fe²⁺、Co²⁺、Ni²⁺、Cu²⁺、Zn²⁺ 和Pb²⁺过渡金属离子。

4.一种权利要求1所述的硅烷功能化剥层水滑石材料的应用，其特征是用于去除工业废水中Pb²⁺离子。