[发明专利]划片槽条宽测试结构及方法有效
| 申请号： | 201310025250.6 | 申请日： | 2013-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN103943607B | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;G03F1/44;H01L21/66 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种划片槽条宽测试结构，包括相互垂直的第一疏条和第二疏条，还包括第一场区图样，所述第一场区图样包括两个图形，各位于所述第一疏条的一侧并相对设置。本发明还公开了一种划片槽条宽测试方法。本发明通过在疏条两侧设置模拟LOCOS结构的场氧化区域的图形，人为产生台阶结构，可以通过在线条宽测试或显检，及时再现小尺寸有源区上光刻的多晶硅栅图形，以真实反映管芯中的实际情况，能够及时发现由于衬底反射导致的多晶硅栅条宽和形貌异常。 | ||
| 搜索关键词： | 划片 槽条宽 测试 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种划片槽条宽测试结构，包括相互垂直的第一疏条和第二疏条，其特征在于，还包括第一场区图样，所述第一场区图样包括两个图形，各位于所述第一疏条的一侧并相对设置。
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