[发明专利]划片槽条宽测试结构及方法有效
| 申请号： | 201310025250.6 | 申请日： | 2013-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN103943607B | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;G03F1/44;H01L21/66 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 划片 槽条宽 测试 结构 方法 | ||
1.一种划片槽条宽测试结构，包括相互垂直的第一疏条和第二疏条，其特征在于，还包括第一场区图样，所述第一场区图样包括两个图形，各位于所述第一疏条的一侧并相对设置。
2.根据权利要求1所述的划片槽条宽测试结构，其特征在于，所述两个图形距所述第一疏条的距离相等。
3.根据权利要求2所述的划片槽条宽测试结构，其特征在于，所述第一场区图样为至少两个，不同的第一场区图样中的图形距所述第一疏条的距离不相等。
4.根据权利要求3所述的划片槽条宽测试结构，其特征在于，所述图形是长方形，长方形的一对对边平行于所述第一疏条。
5.根据权利要求4所述的划片槽条宽测试结构，其特征在于，所述平行于第一疏条的对边中靠近第一疏条的一条边距离第一疏条1至5微米。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的划片槽条宽测试结构，其特征在于，所述第一疏条和第二疏条形成直角折线，所述划片槽条宽测试结构还包括第二场区图样，所述第二场区图样位于第一疏条和第二疏条形成的直角的内侧，所述第二场区图样包括一对对边平行于所述第二疏条的长方形图形。
7.根据权利要求6所述的划片槽条宽测试结构，其特征在于，所述第二场区图样还包括条状图形，所述条状图形平行于所述第二场区图样的长方形图形垂直于所述第二疏条的边。
8.根据权利要求7所述的划片槽条宽测试结构，其特征在于，所述第二场区图样为至少两个，每个所述第二场区图样中、条状图形长度与其平行的长方形图形的边相等；各个第二场区图样距所述第二疏条的距离相等。
9.一种划片槽条宽测试方法，包括下列步骤：
提供形成有根据权利要求1-8中任意一项所述的划片槽条宽测试结构的掩膜版；
将所述掩膜版上的划片槽条宽测试结构光刻到晶圆的划片槽上；
测试所述晶圆上所述划片槽条宽测试结构的线宽。
10.根据权利要求9所述的划片槽条宽测试方法，其特征在于，所述划片槽条宽测试结构光刻在所述晶圆的单晶硅有源区表面。
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