[发明专利]高粘性流体的处理装置有效

专利信息
申请号: 201310013476.4 申请日: 2013-01-15
公开(公告)号: CN103721592A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 井上政宪;长井圣二;金丸嘉浩 申请(专利权)人: 株式会社井上制作所
主分类号: B01F7/16 分类号: B01F7/16;B01F15/00;B02C17/16;B02C17/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;杨楷
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及高粘性流体的处理装置,当制造化学、医疗、电子、陶瓷、药品、食品、饲料及其他的固体/液体类处理材料时,能够不使用分散介质(球珠)地将预先混捏的粘度范围为10~2500dPa·s的高粘性膏体混捏、捏和、分散。具有器皿和旋转体,该器皿具有处理材料的供给口和排出口,该旋转体以能够在器皿内旋转的方式设置。在器皿的内表面和旋转体的外周面之间,形成有处理材料受到旋转体的处理并同时通过的环状微小间隙。利用滚花加工而将刻纹设于面对该微小间隙的旋转体的表面。
搜索关键词: 粘性 流体 处理 装置
【主权项】:
 一种高粘性流体的处理装置,当制造固体/液体类处理材料时,不使用分散介质地将预先混捏的粘度范围为10~2500dPa·s的高粘性流体的处理材料混捏、捏和、分散,其特征在于,具有器皿、旋转体以及环状微小间隙,该器皿具有处理材料的供给口和排出口,该旋转体以能够在器皿内旋转的方式设置,该环状微小间隙以成为该处理材料受到旋转体的处理并同时流动的通路的方式设于器皿的内表面和旋转体的外周面之间,在该旋转体的表面,设有刻纹。
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