[发明专利]高粘性流体的处理装置有效

专利信息
申请号: 201310013476.4 申请日: 2013-01-15
公开(公告)号: CN103721592A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 井上政宪;长井圣二;金丸嘉浩 申请(专利权)人: 株式会社井上制作所
主分类号: B01F7/16 分类号: B01F7/16;B01F15/00;B02C17/16;B02C17/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;杨楷
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 粘性 流体 处理 装置
【权利要求书】:

1. 一种高粘性流体的处理装置,当制造固体/液体类处理材料时,不使用分散介质地将预先混捏的粘度范围为10~2500dPa·s的高粘性流体的处理材料混捏、捏和、分散,其特征在于,具有器皿、旋转体以及环状微小间隙,该器皿具有处理材料的供给口和排出口,该旋转体以能够在器皿内旋转的方式设置,该环状微小间隙以成为该处理材料受到旋转体的处理并同时流动的通路的方式设于器皿的内表面和旋转体的外周面之间,在该旋转体的表面,设有刻纹。

2. 根据权利要求1所述的高粘性流体的处理装置,其特征在于,所述旋转体形成为剖面圆形的筒状体,通过实施滚花加工而将所述刻纹形成于旋转体的表面。

3. 根据权利要求1所述的高粘性流体的处理装置,其特征在于,所述旋转体构成为筒状体,该筒状体在外周面沿圆周方向隔开间隔而设置槽部,并形成沿长度方向延伸的带状突起,通过实施滚花加工而将所述刻纹形成于旋转体的带状突起的表面。

4. 根据权利要求1~3中的任一项所述的高粘性流体的处理装置,其特征在于,所述旋转体的表面的粗化率为1.05~2.35。

5. 根据权利要求1~4中的任一项所述的高粘性流体的处理装置,其特征在于,所述环状微小间隙为1.0~10mm。

6. 根据权利要求1~5中的任一项所述的高粘性流体的处理装置,其特征在于,所述旋转体的圆周速度为3~30m/sec。

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