[发明专利]功率半导体器件的背面集电极结构有效

专利信息
申请号: 201310013013.8 申请日: 2013-01-14
公开(公告)号: CN103077962A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 陈宏;朱阳军;邱颖斌;徐承福;吴凯 申请(专利权)人: 江苏物联网研究发展中心;中国科学院微电子研究所;江苏中科君芯科技有限公司
主分类号: H01L29/417 分类号: H01L29/417
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214135 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种功率半导体器件的背面集电极结构,按照本发明提供的技术方案,所述功率半导体器件的背面集电极结构,在N导电类型硅衬底的背面设有P导电类型氮化镓层,在P导电类型氮化镓层的背面设有集电极。本发明在器件的背面制作异质结结构提高注入效率,可以改善器件的导通压降,异质结界面缺陷较多,可以形成复合中心减少载流子寿命,改善关断特性。
搜索关键词: 功率 半导体器件 背面 集电极 结构
【主权项】:
一种功率半导体器件的背面集电极结构,其特征是:在N导电类型硅衬底(1)的背面设有P导电类型氮化镓层(2),在P导电类型氮化镓层(2)的背面设有集电极(3)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏物联网研究发展中心;中国科学院微电子研究所;江苏中科君芯科技有限公司,未经江苏物联网研究发展中心;中国科学院微电子研究所;江苏中科君芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310013013.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top