[发明专利]功率半导体器件的背面集电极结构有效
申请号: | 201310013013.8 | 申请日: | 2013-01-14 |
公开(公告)号: | CN103077962A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 陈宏;朱阳军;邱颖斌;徐承福;吴凯 | 申请(专利权)人: | 江苏物联网研究发展中心;中国科学院微电子研究所;江苏中科君芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/417 | 分类号: | H01L29/417 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种功率半导体器件的背面集电极结构,按照本发明提供的技术方案,所述功率半导体器件的背面集电极结构,在N导电类型硅衬底的背面设有P导电类型氮化镓层,在P导电类型氮化镓层的背面设有集电极。本发明在器件的背面制作异质结结构提高注入效率,可以改善器件的导通压降,异质结界面缺陷较多,可以形成复合中心减少载流子寿命,改善关断特性。 | ||
搜索关键词: | 功率 半导体器件 背面 集电极 结构 | ||
【主权项】:
一种功率半导体器件的背面集电极结构,其特征是:在N导电类型硅衬底(1)的背面设有P导电类型氮化镓层(2),在P导电类型氮化镓层(2)的背面设有集电极(3)。
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