[发明专利]III族氮化物外延基板以及使用该基板的深紫外发光元件有效

专利信息
申请号: 201310011761.2 申请日: 2013-01-11
公开(公告)号: CN103208572A 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 大鹿嘉和 申请(专利权)人: 同和电子科技有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/06
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供能够得到提高了发光功率输出的深紫外发光元件的III族氮化物外延基板以及提高了发光功率输出的深紫外发光元件。本发明的III族氮化物外延基板(10)依次具有基板(12)、AlN缓冲层(14)、第一超晶格积层体(16)、第二超晶格积层体(18)和III族氮化物积层体(20)。III族氮化物积层体(20)含有由AlαGa1-αN(0.03≤α)形成的活性层(24)。第一超晶格积层体(16)交替含有AlaGa1-aN层(16A)和AlbGa1-bN(0.9<b≤1)层(16B)并且满足α<a和a<b的条件。第二超晶格积层体(18)重复含有AlxGa1-xN层(18A)、AlyGa1-yN层(18B)和AlzGa1-zN(0.9<z≤1)层(18C)并且满足α<x和x<y<z的条件。
搜索关键词: iii 氮化物 外延 以及 使用 深紫 发光 元件
【主权项】:
一种III族氮化物外延基板,其特征在于,其具有:基板,在该基板上形成的AlN缓冲层,在该缓冲层上依次形成的第一超晶格积层体和第二超晶格积层体,以及在该第二超晶格积层体上外延生长的、包含含AlαGa1‑αN层的活性层的III族氮化物积层体,0.03≤α;所述第一超晶格积层体交替含有由AlaGa1‑aN形成的第一层和由AlbGa1‑bN形成的第二层并且满足α<a和a<b的条件,0.9<b≤1;所述第二超晶格积层体重复含有由AlxGa1‑xN形成的第三层、由AlyGa1‑yN形成的第四层和由AlzGa1‑zN形成的第五层并且满足α<x和x<y<z的条件,0.9<z≤1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同和电子科技有限公司,未经同和电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310011761.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top