[发明专利]III族氮化物外延基板以及使用该基板的深紫外发光元件有效
申请号: | 201310011761.2 | 申请日: | 2013-01-11 |
公开(公告)号: | CN103208572A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 大鹿嘉和 | 申请(专利权)人: | 同和电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/06 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供能够得到提高了发光功率输出的深紫外发光元件的III族氮化物外延基板以及提高了发光功率输出的深紫外发光元件。本发明的III族氮化物外延基板(10)依次具有基板(12)、AlN缓冲层(14)、第一超晶格积层体(16)、第二超晶格积层体(18)和III族氮化物积层体(20)。III族氮化物积层体(20)含有由AlαGa1-αN(0.03≤α)形成的活性层(24)。第一超晶格积层体(16)交替含有AlaGa1-aN层(16A)和AlbGa1-bN(0.9<b≤1)层(16B)并且满足α<a和a<b的条件。第二超晶格积层体(18)重复含有AlxGa1-xN层(18A)、AlyGa1-yN层(18B)和AlzGa1-zN(0.9<z≤1)层(18C)并且满足α<x和x<y<z的条件。 | ||
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【主权项】:
一种III族氮化物外延基板,其特征在于,其具有:基板,在该基板上形成的AlN缓冲层,在该缓冲层上依次形成的第一超晶格积层体和第二超晶格积层体,以及在该第二超晶格积层体上外延生长的、包含含AlαGa1‑αN层的活性层的III族氮化物积层体,0.03≤α;所述第一超晶格积层体交替含有由AlaGa1‑aN形成的第一层和由AlbGa1‑bN形成的第二层并且满足α<a和a<b的条件,0.9<b≤1;所述第二超晶格积层体重复含有由AlxGa1‑xN形成的第三层、由AlyGa1‑yN形成的第四层和由AlzGa1‑zN形成的第五层并且满足α<x和x<y<z的条件,0.9<z≤1。
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