[发明专利]跟踪器单元和跟踪器单元中的方法

摘要

公开了一种用于测量仪器(诸如，全站仪)的跟踪器单元。该跟踪单元包括被布置在不同位置处的第一光学辐射源和至少第二光学辐射源并且所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源中的每一个相对于跟踪器指向轴线非同轴地布置且当被激活时适于朝向反射目标发射光学辐射。所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置在如下的位置处，即使得所述跟踪器指向轴线和所述第一光学辐射源的位置限定第一平面并且所述跟踪器指向轴线和所述至少第二光学辐射源的位置限定第二平面，所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置成使得在垂直于所述第一平面的平面内，所述第一光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴，且在垂直于所述第二平面的平面内，所述至少第二光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴。基于由所述第一光学辐射源发射的光学辐射的反射所生成的、照射在光传感器上光学辐射，生成至少一个第一组信号。基于由所述至少一个第二光学辐射源发射的光学辐射的反射所生成的、照射在光传感器上的光学辐射，生成至少一个第二组信号。通过在所述跟踪器单元中采用相对于所述跟踪器指向轴线偏心地布置的至少两个光学辐射源，在跟踪器单元中可以采用一个非同轴光学配置，同时允许模仿或“模拟”所述跟踪器单元中的同轴光学行为。

主权项

一种用于测量仪器(10)的跟踪器单元(1)，所述测量仪器包括至少一个可旋转地布置的仪器主体(11、14)，所述跟踪器单元包括：一个光传感器模块(33)，包括多个光传感器，每个光传感器适于生成一个对应于照射在其上的光学辐射的强度的信号，所述光学辐射由光学辐射在一个反射目标(90)处的反射生成，所述光传感器模块包括一个光学系统(34)，所述光学系统(34)适于将从所述目标反射的光学辐射投射到所述多个光传感器上，其中所述光传感器模块被布置成使得所述光传感器模块的一个跟踪器指向轴线(36)相对于所述测量仪器的一个仪器瞄准轴线(S)同轴；第一光学辐射源(81)和至少第二光学辐射源(82)，所述第一光学辐射源(81)和所述至少第二光学辐射源(82)被布置在不同的位置，且所述第一光学辐射源(81)和所述至少第二光学辐射源(82)中的每一个相对于所述跟踪器指向轴线非同轴地布置并且在被激活时适于朝向所述反射目标发射光学辐射，其中所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置在使得所述跟踪器指向轴线和所述第一光学辐射源的位置限定第一平面且所述跟踪器指向轴线和所述至少第二光学辐射源的位置限定第二平面的位置处，并且所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置成使得在垂直于所述第一平面的平面内，所述第一光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴，且在垂直于所述第二平面的平面内，所述至少第二光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴；一个控制模块(5；51)，适于：选择性地致使所述至少一个仪器主体旋转；至少一次选择性地激活和去激活所述第一光学辐射源以及至少一次选择性地激活和去激活所述至少第二光学辐射源；以及致使所述多个光传感器基于由所述第一光学辐射源发射的光学辐射的反射所生成的、照射在所述光传感器上的光学辐射生成至少一个第一组信号，以及基于由所述至少第二光学辐射源发射的光学辐射的反射所生成的、照射在所述光传 感器上的光学辐射生成至少一个第二组信号；以及一个信号处理器模块(6；70)，适于基于所述至少一个第一组信号，提取关于在所述垂直于所述第一平面的平面内一个目标轴线(95)与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息，以及基于所述至少一个第二组信号，提取关于在所述垂直于所述第二平面的平面内所述目标轴线(95)与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息；其中所述控制模块适于在所述仪器瞄准轴线和所述目标轴线未对准的条件下，分别基于关于在所述垂直于所述第一平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息和关于在所述垂直于所述第二平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息，致使所述至少一个仪器主体旋转，使得所述仪器瞄准轴线变得与所述目标轴线对准或变得与所述目标轴线接近对准。