[发明专利]跟踪器单元和跟踪器单元中的方法有效
申请号: | 201280078101.X | 申请日: | 2012-11-01 |
公开(公告)号: | CN105026886A | 公开(公告)日: | 2015-11-04 |
发明(设计)人: | C·格拉瑟;S·柯克 | 申请(专利权)人: | 特林布尔公司 |
主分类号: | G01C1/02 | 分类号: | G01C1/02;G01C1/04;G01C15/00 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 杨勇;郑建晖 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 跟踪 单元 中的 方法 | ||
1.一种用于测量仪器(10)的跟踪器单元(1),所述测量仪器包括至少一个可旋转地布置的仪器主体(11、14),所述跟踪器单元包括:
一个光传感器模块(33),包括多个光传感器,每个光传感器适于生成一个对应于照射在其上的光学辐射的强度的信号,所述光学辐射由光学辐射在一个反射目标(90)处的反射生成,所述光传感器模块包括一个光学系统(34),所述光学系统(34)适于将从所述目标反射的光学辐射投射到所述多个光传感器上,其中所述光传感器模块被布置成使得所述光传感器模块的一个跟踪器指向轴线(36)相对于所述测量仪器的一个仪器瞄准轴线(S)同轴;
第一光学辐射源(81)和至少第二光学辐射源(82),所述第一光学辐射源(81)和所述至少第二光学辐射源(82)被布置在不同的位置,且所述第一光学辐射源(81)和所述至少第二光学辐射源(82)中的每一个相对于所述跟踪器指向轴线非同轴地布置并且在被激活时适于朝向所述反射目标发射光学辐射,其中所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置在使得所述跟踪器指向轴线和所述第一光学辐射源的位置限定第一平面且所述跟踪器指向轴线和所述至少第二光学辐射源的位置限定第二平面的位置处,并且所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置成使得在垂直于所述第一平面的平面内,所述第一光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴,且在垂直于所述第二平面的平面内,所述至少第二光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴;
一个控制模块(5;51),适于:
选择性地致使所述至少一个仪器主体旋转;
至少一次选择性地激活和去激活所述第一光学辐射源以及至少一次选择性地激活和去激活所述至少第二光学辐射源;以及
致使所述多个光传感器基于由所述第一光学辐射源发射的光学辐射的反射所生成的、照射在所述光传感器上的光学辐射生成至少一个第一组信号,以及基于由所述至少第二光学辐射源发射的光学辐射的反射所生成的、照射在所述光传 感器上的光学辐射生成至少一个第二组信号;以及
一个信号处理器模块(6;70),适于基于所述至少一个第一组信号,提取关于在所述垂直于所述第一平面的平面内一个目标轴线(95)与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息,以及基于所述至少一个第二组信号,提取关于在所述垂直于所述第二平面的平面内所述目标轴线(95)与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息;
其中所述控制模块适于在所述仪器瞄准轴线和所述目标轴线未对准的条件下,分别基于关于在所述垂直于所述第一平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息和关于在所述垂直于所述第二平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息,致使所述至少一个仪器主体旋转,使得所述仪器瞄准轴线变得与所述目标轴线对准或变得与所述目标轴线接近对准。
2.根据权利要求1所述的跟踪器单元,其中所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置在使得所述第一平面正交于所述第二平面的位置处,并且所述第一光学辐射源和所述至少第二光学辐射源被布置成使得在所述第二平面内,所述第一光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴,且在所述第一平面内,所述至少第二光学辐射源相对于所述跟踪器指向轴线同轴。
3.根据权利要求1或2所述的跟踪器单元,其中在如下的条件下,即在所述垂直于所述第一平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的量级和在所述垂直于所述第二平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的量级分别超过一个阈值,所述控制模块适于分别基于关于在所述垂直于所述第一平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息和关于在所述垂直于所述第二平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度的信息,致使所述至少一个仪器主体旋转,使得在所述垂直于所述第一平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度和在所述垂直于所述第二平面的平面内所述目标轴线与所述仪器瞄准轴线之间的角度分别减小到所述阈值以下。
4.根据权利要求1-3中的任一项所述的跟踪器单元,其中所述第一光学辐射源被定位在垂直于所述仪器瞄准轴线的第一轴线上并且所 述至少第二光学辐射源被定位在垂直于所述仪器瞄准轴线的第二轴线上,其中所述第一轴线、所述第二轴线以及所述仪器瞄准轴线相互垂直。
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