[发明专利]过滤元件有效
| 申请号： | 201280075997.6 | 申请日： | 2012-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104661720B | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | T·朗格 | 申请（专利权）人： | HYDAC过滤技术有限公司 |
| 主分类号： | B01D29/21 | 分类号： | B01D29/21 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 闫娜 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种过滤元件(1)，该过滤元件包括优选多层结构的过滤介质(3)，该过滤介质以打褶的形式包括具有不同褶皱高度(h1、h2)的过滤褶皱(5、7)，亦即包括具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)和具有比第一褶皱高度小的第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)，其中，该过滤元件具有用于要净化的流体从脏污侧流到清洁侧(R)的穿流方向，其特征在于，所有过滤褶皱(5、7)的与清洁侧(R)或与脏污侧(S)相邻设置的过渡部都沿着假想圆柱体(9)终止，该假想圆柱体与所述过滤介质的纵轴线(LA)同轴地穿过过滤介质(3)。 | ||
| 搜索关键词： | 过滤 元件 | ||
【主权项】：
一种过滤元件(1)，该过滤元件具有过滤介质(3)结构，该过滤介质以打褶的形式包括具有不同褶皱高度(h1、h2)的过滤褶皱(5、7)，亦即包括具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)和具有比第一褶皱高度小的第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)，其中，该过滤元件具有用于要净化的流体从脏污侧(S)到清洁侧(R)的穿流方向，其中，所有过滤褶皱(5、7)的与清洁侧(R)或与脏污侧(S)相邻设置的过渡部都沿着假想圆柱体(9)终止，该假想圆柱体与所述过滤介质的纵轴线(LA)同轴地穿过过滤介质(3)，并且在过滤介质(3)的轴向俯视图中并且从清洁侧(R)或者从脏污侧(S)看去，由各一个相邻设置的具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)界定的、具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)构成为具有空置等候空间(19)的M形褶皱单元(M)的形式，其特征在于，该过滤元件通常由具有颗粒污物的流体穿流过，该流体导致该过滤元件的静电荷；由于M形褶皱单元(M)，在该过滤元件运行时，所述电荷由于因各个等候空间(19)引起的流体流动速度的减小而减少。
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