[发明专利]过滤元件

权利要求书

1.一种过滤元件(1)，该过滤元件具有优选多层结构的过滤介质(3)，该过滤介质以打褶的形式包括具有不同褶皱高度(h1、h2)的过滤褶皱(5、7)，亦即包括具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)和具有比第一褶皱高度小的第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)，其中，该过滤元件具有用于要净化的流体从脏污侧(S)到清洁侧(R)的穿流方向，其特征在于，所有过滤褶皱(5、7)的与清洁侧(R)或与脏污侧(S)相邻设置的过渡部都沿着假想圆柱体(9)终止，该假想圆柱体与所述过滤介质的纵轴线(LA)同轴地穿过过滤介质(3)。

2.按照权利要求1所述的过滤元件，其特征在于，具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)和具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)基本上互相交替地设置。

3.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，通过具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)来稳定具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)的定向和/或布置结构。

4.按照权利要求3所述的过滤元件，其特征在于，如果具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)朝脏污侧(S)或朝清洁侧(R)突出超过具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)，那么通过具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)阻止具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)的接触或互相粘着。

5.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，与具有同一高度的、例如第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱的过滤介质相比，尽管过滤表面减少，但过滤介质(3)的有效过滤面是相同的、而且优选增大。

6.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，清洁侧(R)设置在所述过滤元件的内侧，该内侧在形成所述假想圆柱体(9)的同时被过滤介质(3)包围。

7.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，清洁侧(R)设置在过滤介质(3)的外侧，该外侧背向所述假想圆柱体(9)。

8.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，所述过滤褶皱(5、7)分别包括两个彼此贴靠的平坦的过滤面(11、13)，这些过滤面连续地构成打褶的过滤介质(3)并且在分别过渡到相邻设置的过滤褶皱(7、5)的过渡部(15)的区域中具有相同的曲率半径(BR)。

9.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，各过滤褶皱(5、7)朝清洁侧(R)或朝脏污侧(S)由支撑管(9)支撑，通过该支撑管构成所述假想圆柱体(9)。

10.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)是具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)的高度的大约1/4至3/4、优选大约2/3。

11.按照上述权利要求中任一项所述的过滤元件，其特征在于，在过滤介质(3)的轴向俯视图中并且从清洁侧(R)或者从脏污侧(S)看去，由各一个相邻设置的具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)界定的、具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)构成为M形褶皱单元(M)的形式。

12.按照权利要求11所述的过滤元件，其特征在于，为了在过滤介质(3)的设置在清洁侧的底部(17)上获得间隙状的精细过滤区域(16)，不同褶皱高度(h1、h2)的各个过滤褶皱(5、7)在形成M形褶皱单元(M)的同时以锥形轮廓展开。

13.按照权利要求11或12所述的过滤元件，其特征在于，由于在界定具有第二褶皱高度(h2)的过滤褶皱(5)的、两个相邻设置的具有第一褶皱高度(h1)的过滤褶皱(7)之间的M形褶皱单元(M)，用于流体的空置等候空间(19)在脏污侧(S)或者在清洁侧(R)以假想扇形柱体的形式构成，该假想扇形柱体在过滤元件运行时导致流体通过该过滤元件的流动速度均化并且优选减小。

14.按照权利要求11至13中任一项所述的过滤元件，其特征在于，所述过滤元件通常由具有颗粒污物的流体穿流过，该流体导致该过滤元件的静电荷；由于M形褶皱单元(M)，在该过滤元件运行时，所述电荷由于因各个等候空间(19)引起的流体流动速度的减小而减少。