[发明专利]集电体用铝箔及其制造方法有效
| 申请号： | 201280070741.6 | 申请日： | 2012-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN104160536B | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 本居徹也;船户宁 | 申请（专利权）人： | 株式会社UACJ |
| 主分类号： | H01M4/66 | 分类号： | H01M4/66;H01G11/70;H01M4/64 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;刘华联 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 铝箔的至少一个箔表面被粗面化，该粗面化的表面的JIS B0601:2001中规定的算数平均粗糙度Ra为，在与箔压延时的压延方向成直角方向上测定的算数平均粗糙度Ra之A，和与压延方向成平行方向上测定的算数平均粗糙度Ra之B，满足0.15μm≤A≤2.0μm、0.15μm≤B≤2.0μm、0.5≤B/A≤1.5的关系。在粗面化的箔表面上优选附着有50～1000μg/m2的油分。该油份优选压延油。 | ||
| 搜索关键词： | 体用 铝箔 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种集电体用铝箔，其特征在于，其至少一个箔表面被粗面化，且所述粗面化了的表面的JIS B 0601:2001中规定的算数平均粗糙度Ra为，在与箔压延时的压延方向成直角方向上测定的算数平均粗糙度Ra之A和与压延方向平行方向上测定的算数平均粗糙度Ra之B满足以下关系：0.15μm≤A≤2.0μm；0.15μm≤B≤2.0μm；0.5≤B/A≤1.5，并且，在所述粗面化了的箔表面上附着有150～1000μg/m2的油分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社UACJ，未经株式会社UACJ许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280070741.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：车辆搭载用电池堆系统
- 下一篇：正极活性物质、电器件用正极及电器件
