[发明专利]用于EM跟踪的补偿、检测和误差校正的畸变指纹分析有效
| 申请号： | 201280061253.9 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103987337A | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | B·拉马钱德兰;A·K·贾殷 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B19/00 | 分类号： | A61B19/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘瑜;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于利用电磁(EM)跟踪系统考虑电磁(EM)畸变的系统包括被配置为感测目标体积中的EM能量的传感器阵列(144)。EM感测校正模块(140)被配置为分析来自所述传感器阵列的数据，以检测所述目标体积中的EM畸变引生物。所述EM感测校正模块还被配置为比较存储在数据库(142)中的畸变指纹，以识别畸变源。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 em 跟踪 补偿 检测 误差 校正 畸变 指纹 分析 | ||
【主权项】：
一种用于利用电磁(EM)跟踪系统考虑电磁(EM)畸变的系统，包括：传感器阵列(144)，其被配置为感测目标体积中的EM能量；以及EM感测校正模块(140)，其被配置为分析来自所述传感器阵列的数据以检测所述目标体积中的EM畸变引生物，所述EM感测校正模块还被配置为比较存储在数据库(142)中的畸变指纹以识别畸变源。
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