[发明专利]用于EM跟踪的补偿、检测和误差校正的畸变指纹分析有效
申请号: | 201280061253.9 | 申请日: | 2012-11-14 |
公开(公告)号: | CN103987337A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | B·拉马钱德兰;A·K·贾殷 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B19/00 | 分类号: | A61B19/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘瑜;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 em 跟踪 补偿 检测 误差 校正 畸变 指纹 分析 | ||
1.一种用于利用电磁(EM)跟踪系统考虑电磁(EM)畸变的系统,包括:
传感器阵列(144),其被配置为感测目标体积中的EM能量;以及
EM感测校正模块(140),其被配置为分析来自所述传感器阵列的数据以检测所述目标体积中的EM畸变引生物,所述EM感测校正模块还被配置为比较存储在数据库(142)中的畸变指纹以识别畸变源。
2.根据权利要求1所述的系统,还包括机器人(130),所述机器人被配置为在与所述目标体积相关联的区域中移动以测量或确定EM场的变化。
3.根据权利要求2所述的系统,其中,所述机器人包括确定其位置和取向的跟踪设备(146)。
4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述数据库(142)通过表征与工具、设备以及其组合相关联的多种畸变形态而被构建。
5.根据权利要求1所述的系统,其中,所述传感器阵列(144)对EM误差进行术中测量,并且所述EM感测校正模块生成误差图。
6.根据权利要求1所述的系统,其中,所述EM感测校正模块(140)估计畸变引生物的误差贡献,并基于测得误差与基线参考的比较而识别所述畸变引生物以及其位置。
7.根据权利要求1所述的系统,其中,所述EM感测校正模块(140)通过对畸变源与所述数据库中的已知畸变形态进行比较而识别未知的畸变源。
8.根据权利要求1所述的系统,其中,所述EM感测校正模块(140)估计畸变引生物的误差贡献,并对所述误差进行补偿,以提高EM跟踪准确度。
9.一种用于利用电磁(EM)跟踪系统考虑电磁(EM)畸变的系统,包括:
数据库(142),其通过将多个表征的畸变形态存储成与引起EM场畸变的工具、设备以及其组合相关联的指纹而被构建;
传感器阵列(144),其被配置为对目标体积中的EM能量进行术中感测;以及
EM感测校正模块(140),其被配置为分析来自所述传感器阵列的数据以检测所述目标体积中的EM畸变引生物,所述EM感测校正模块还被配置为比较存储在所述数据库中的畸变指纹以识别畸变源,所述EM感测校正模块被配置为输出如下中的一个或多个:畸变引生物的位置和取向、显示畸变引生物引发的误差的误差图、或者未知畸变引生物的识别。
10.根据权利要求9所述的系统,还包括机器人(130),所述机器人被配置为在与所述目标体积相关联的区域中移动以测量或确定EM场的变化。
11.根据权利要求10所述的系统,其中,所述机器人(130)包括确定其位置和取向的跟踪设备(146)。
12.根据权利要求9所述的系统,其中,所述传感器阵列(144)对EM误差进行术中测量,并且所述EM感测校正模块(140)生成误差图。
13.根据权利要求9所述的系统,其中,所述EM感测校正模块(140)估计畸变引生物的误差贡献,并基于测得误差与基线参考的比较而识别所述畸变引生物以及其位置。
14.根据权利要求9所述的系统,其中,所述EM感测校正模块(140)通过将畸变源与所述数据库中的已知畸变形态进行比较而识别未知的畸变源。
15.根据权利要求9所述的系统,其中,所述EM感测校正模块(140)估计畸变引生物的误差贡献,并对所述误差进行补偿,以提高EM跟踪准确度。
16.一种用于利用电磁(EM)跟踪系统考虑电磁(EM)畸变的方法,包括:
使用被配置为感测目标体积中的EM能量的传感器阵列来测量(204)EM误差;
比较(206)存储在数据库中的畸变指纹,以通过分析来自所述传感器阵列的数据来识别所述目标体积中的畸变源;并且
输出(208)如下中的一个或多个:畸变引生物的位置和取向、显示畸变引生物引发的误差的误差图、或者未知畸变引生物的识别。
17.根据权利要求16所述的方法,还包括测量(404)由被配置为在与所述目标体积相关联的区域中移动的畸变引生物导致的EM场的变化。
18.根据权利要求16所述的方法,还包括通过表征与工具、设备以及其组合相关联的多种畸变形态而构建(202)所述数据库。
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