[发明专利]包括隔热板的基板处理装置

摘要

根据本发明的一实施方案，实现在基板上形成外延层的外延工艺的外延装置，其包括下部腔室，其上部打开，并在一侧形成有使所述基板进出的通道；外部反应管，其用于关闭所述下部腔室中打开的上部，并提供实现所述外延工艺的工艺空间；基板支架，其在上下方向载置一个以上的所述基板，且可以转换到载置所述基板的载置位置、和实现对所述基板的所述工艺的工艺位置；一个以上的供应喷嘴，其沿着所述外部反应管的内壁配置，并具有用于喷射所述反应气体的供应口；和一个以上的排气喷嘴，其沿着所述外部反应管的内壁配置，并具有用于吸入所述工艺空间内的未反应气体及反应副产物的排气口；以及后方排气线，其连接于所述排气喷嘴，并用于排出通过所述排气口吸入的所述未反应气体及所述反应副产物，其中，所述下部腔室具有将所述排气喷嘴和所述后方排气线连接的排气端口、和将形成在所述下部腔室内部的载置空间连接于所述后方排气线的辅助排气端口。

主权项

一种基板处理装置，其实现对基板的工艺，其特征在于，所述基板处理装置包括：下部腔室，其上部打开，并在一侧形成有使所述基板进出的通道；外部反应管，其用于关闭所述下部腔室中的打开的上部，并提供实现所述工艺的工艺空间；基板支架，其在上下方向载置一个以上的所述基板，且可以转换到载置所述基板的载置位置、和实现对所述基板的所述工艺的工艺位置；内部反应管，其设置于所述外部反应管的内部，并配置在位于所述工艺位置的所述基板支架的周围而划分对所述基板的反应区域；加热器，其设置于所述外部反应管的外侧，并用于加热所述工艺空间；隔热板，其设置于所述基板支架的下部，并在所述基板支架位于工艺位置时关闭所述内部反应管中的打开的下部；多个供应喷嘴，所述多个供应喷嘴沿着所述外部反应管的内壁配置，且所述多个供应喷嘴各自具有用于喷射反应气体的供应口；多个排气喷嘴，所述多个排气喷嘴沿着所述外部反应管的内壁配置，且所述多个排气喷嘴各自具有用于吸入所述工艺空间内的未反应气体及反应副产物的排气口；其中所述供应口沿着所述内部反应管的内壁在圆周方向配置以具有相位差，且被配置在彼此不同的高度以及被定位在内部反应管内；所述排气口沿着所述内部反应管的内壁在圆周方向配置以具有相位差，且被配置在彼此不同的高度以及被定位在内部反应管内；以及相对于相同的高度，以内部反应管的中心为基准，所述供应口的中心与所述排气口的中心对称。