[发明专利]用于使用常压等离子体进行沉积的方法和装置有效
| 申请号： | 201280054145.9 | 申请日： | 2012-10-01 |
| 公开（公告）号： | CN103906855B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 马尔维·A·马托斯;利亚姆·S·平格里 | 申请（专利权）人： | 波音公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/46;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人： | 余刚,吴孟秋 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种装置可包括等离子体沉积单元、移动系统以及网孔系统。等离子体沉积单元可被配置为产生等离子体。移动系统可被配置为移动等离子体沉积单元下方的基板。网孔系统可位于等离子体沉积单元与基板之间，其中，网孔可包括用于沉积到基板上的一些材料，并且其中，穿过网孔的等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 使用 常压 等离子体 进行 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种用于使材料沉积的装置，包括：大气等离子体沉积单元(110)，被配置为产生等离子体(122)；卷带式移动系统(112)，被配置为移动所述大气等离子体沉积单元(110)下方的基板(108)；以及网孔系统(124)，位于所述大气等离子体沉积单元(110)与所述基板(108)之间，其中，网孔包括用于沉积到所述基板(108)上的一些材料(104)，并且其中，穿过所述网孔的所述等离子体(122)使所述一些材料(104)中的一部分从所述网孔释放而被沉积到所述基板(108)上，其中，所述大气等离子体沉积单元(110)包括一些喷嘴(128)，并且所述网孔系统(124)包括与所述一些喷嘴(128)相关联的一些网孔(138)，其中，所述一些网孔(138)由多种网孔(148)组成，其中，所述多种网孔(148)中的一种网孔根据网孔图案(150)和材料类型(152)中的至少一个来选择。
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