[发明专利]用于使用常压等离子体进行沉积的方法和装置

权利要求书

1.一种装置，包括：

等离子体沉积单元(110)，被配置为产生等离子体(122)；移动系统(112)，被配置为移动所述等离子体沉积单元(110)下方的基板(108)；以及

网孔系统(124)，位于所述等离子体沉积单元(110)与所述基板(108)之间，其中，网孔包括用于沉积到所述基板(108)上的一些材料(104)，并且其中，穿过所述网孔的所述等离子体(122)使所述一些材料(104)中的一部分从所述网孔被沉积到所述基板(108)上。

2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：

控制器(116)，被配置为控制所述等离子体沉积单元(110)和所述移动系统(112)的操作。

3.根据权利要求1或者权利要求2所述的装置，其中，所述一些材料(104)包括多种材料(151)，其中，所述多种材料中的每一种均沉积到所述基板上多个区域(153)中的一些区域上。

4.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述网孔系统(124)被配置为使用选自于梯度(162)和扇区(173)中的一种的配置(168)来使所述一些材料(104)沉积到所述基板(108)上，其中，所述一些材料(104)中的沉积的材料的量(191)以所述梯度(162)来变化。

5.根据任一前述权利要求所述的装置，其中，所述等离子体沉积单元(110)包括一些喷嘴(128)，并且所述网孔系统(124)包括与所述一些喷嘴(128)相关联的一些网孔(138)。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述一些网孔(138)由多种网孔(148)组成，其中，所述多种网孔(148)中的一种网孔根据网孔图案(150)和材料类型(152)中的至少一个来选择。

7.根据任一前述权利要求所述的装置，进一步包括：

定位系统(473)，被配置为将所述等离子体沉积单元(110)围绕一些轴移动。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的装置，其中，所述控制器(116)被配置为控制作为部分工艺的所述一些材料(104)到所述基板(108)的沉积，以便形成选自于下列各项中的一种的设备：有机发光二极管显示器、集成电路、处理器、显示设备、传感器、太阳能电池、窗、挡风玻璃、医疗器械、生物医学植入体以及工程化组织。

9.一种用于使材料沉积的方法，所述方法包括：

从等离子体沉积单元(110)引导等离子体(122)通过位于所述等离子体沉积单元(110)与基板(108)之间的网孔系统(124)，其中，网孔由一些材料(104)组成，并且所述等离子体(122)使所述一些材料(104)中的一部分从所述网孔被沉积到所述基板(108)上；以及

相对于所述等离子体(122)移动所述基板(108)，同时所述一些材料(104)被沉积到所述基板(108)上。

10.根据权利要求9所述的方法，进一步包括：

基于要被沉积到所述基板(108)上的所述一些材料(104)的所需配置(168)，选择用于所述网孔系统(124)的一些网孔(138)。

11.根据权利要求9或者权利要求10所述的方法，其中，所述一些材料(104)包括多种材料(151)，其中，所述多种材料中的每一种均被配置为沉积到所述基板(108)上多个区域(153)中的一些区域上。

12.根据权利要求9至权利要求11中任一项所述的方法，其中，所述等离子体沉积单元(110)包括一些喷嘴(128)，所述网孔系统(124)包括一些网孔(138)，并且所述一些网孔(138)与所述一些喷嘴(128)相关联。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，其中，所述一些网孔(138)由多种网孔(148)组成，其中，所述多种网孔(148)中的一种网孔根据网孔图案(150)和材料类型(152)中的至少一个来选择。