[发明专利]高清晰度加热器和操作方法有效
| 申请号： | 201280052655.2 | 申请日： | 2012-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN104067691B | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 凯文·帕塔斯恩斯基;凯文·罗伯特·史密斯;卡尔·托马斯·斯汪森;菲利普·史蒂文·施密特;穆罕默德·诺斯拉蒂;雅各布·林德利;艾伦·诺曼·博尔特;张三宏;路易斯·P·辛德豪尔;丹尼斯·斯坦利·格里马 | 申请（专利权）人： | 沃特洛电气制造公司 |
| 主分类号： | H05B1/02 | 分类号： | H05B1/02;H01L21/67;H05B3/26 |
| 代理公司： | 北京万慧达知识产权代理有限公司11111 | 代理人： | 白华胜,段晓玲 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种设备，举例而言，在半导体加工设备中使用的加热器，其包括具有至少一个功能区的基底功能层。衬底被固定到基底功能层上，且调谐层被固定到衬底上，与基底功能层相对。所述调谐层包括多个区域，数目大于基底功能层的区域，且调谐层的功率低于基底功能层。此外，部件，诸如，举例而言，夹盘，被固定在调谐层上，与衬底相对。所述衬底限定热导率，以耗散所需量的基底功能层的功率。 | ||
| 搜索关键词： | 清晰度 加热器 操作方法 | ||
【主权项】：
一种设备，其包含：包含至少一个电阻加热元件和至少一个功能区的基底功能层；被固定到所述基底功能层上、包含第一表面和与第一表面相对的第二表面的衬底，其中所述基底功能层提供于第一表面上；被固定到所述衬底的第二表面上、与所述基底功能层相对的调谐层，使得所述衬底位于所述基底功能层和所述调谐层之间，所述调谐层包含多个区域，其数目大于所述基底功能层的区域，且所述调谐层的功率低于所述基底功能层；以及被固定在所述调谐层上、邻近所述衬底的第二表面的部件，其中所述衬底限定热导率，以从所述基底功能层、从所述衬底的第一表面向所述衬底的第二表面，再向所述调谐层和所述部件耗散功率，其中所述调谐层调节由所述基底功能层施加至所述部件的加热曲线。
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