[发明专利]光电子半导体芯片有效

专利信息
申请号: 201280041909.0 申请日: 2012-07-06
公开(公告)号: CN103765612A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 伊瓦尔·通林;沃尔夫冈·施密德 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/20;H01L33/38;H01L33/40
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁永凡;张春水
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 在光电子半导体芯片(1)的至少一个实施形式中,所述光电子半导体芯片包括具有至少一个有源层(20)的半导体层序列(2)。此外,半导体芯片(1)具有在半导体层序列(2)的辐射主侧(23)上的上侧接触结构(3)和在与辐射主侧(23)对置的下侧(24)上的下侧接触结构(4)。此外,半导体芯片(1)包含至少两个沟道(5),所述沟道(5)从辐射主侧(23)伸展至下侧(24)。在辐射主侧(23)的俯视图中看,上侧接触结构(3)和下侧接触结构(4)彼此间隔地布置。同样在辐射主侧(23)的俯视图中看,沟道(5)位于上侧接触结构(3)与下侧接触结构(4)之间。
搜索关键词: 光电子 半导体 芯片
【主权项】:
一种光电子半导体芯片(1),具有:‑半导体层序列(2),所述半导体层序列具有至少一个有源层(20);‑在所述半导体层序列(2)的辐射主侧(23)上的上侧接触结构(3);‑在所述半导体层序列(2)的与所述辐射主侧(23)对置的下侧(24)上的下侧接触结构(1);和‑至少两个沟道(5),所述沟道从所述辐射主侧(23)朝所述下侧(24)的方向伸展,其中,在所述辐射主侧(23)的俯视图中看,所述上侧接触结构(3)和所述下侧接触结构(4)在所述辐射主侧(23)的至少一个区域中彼此间隔,并且所述沟道(5)在所述区域中布置在所述上侧接触结构(3)与所述下侧接触结构(4)之间。
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