[发明专利]纳米气泡的生成系统以及生成方法无效
| 申请号： | 201280040979.4 | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN103747859A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 矢野宏;酒井步美 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | B01F5/06 | 分类号： | B01F5/06;B01F1/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明利用非常简易的构成和工艺来提供纳米气泡在液相中稳定存在的纳米气泡的生成系统和生成方法。本发明的纳米气泡的生成系统具备：生成室，所述生成室以密闭状态收容存在于上侧的气相部分和与气相部分的下侧接触的液相部分；过饱和溶解液体生成装置，所述过饱和溶解液体生成装置生成气体以过饱和的状态溶解于液相部分而得到的过饱和溶解液体；和纳米气泡生成装置，所述纳米气泡生成装置借助具有纳米尺寸的开口直径的贯通孔将加压后的气体供给至所述过饱和溶解液体中，由此生成直径小于1μm的纳米气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 气泡 生成 系统 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种纳米气泡的生成系统，其特征在于，其具备：生成室，所述生成室以密闭状态收容存在于上侧的气相部分和与气相部分的下侧接触的液相部分；过饱和溶解液体生成装置，所述过饱和溶解液体生成装置生成气体以过饱和的状态溶解于液相部分而得到的过饱和溶解液体；和纳米气泡生成装置，所述纳米气泡生成装置借助具有纳米尺寸的开口直径的贯通孔将加压后的气体供给至所述过饱和溶解液体中，由此生成直径小于1μm的纳米气泡。
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