[发明专利]纳米气泡的生成系统以及生成方法

权利要求书

1.一种纳米气泡的生成系统，其特征在于，其具备：

生成室，所述生成室以密闭状态收容存在于上侧的气相部分和与气相部分的下侧接触的液相部分；

过饱和溶解液体生成装置，所述过饱和溶解液体生成装置生成气体以过饱和的状态溶解于液相部分而得到的过饱和溶解液体；和

纳米气泡生成装置，所述纳米气泡生成装置借助具有纳米尺寸的开口直径的贯通孔将加压后的气体供给至所述过饱和溶解液体中，由此生成直径小于1μm的纳米气泡。

2.如权利要求1所述的纳米气泡的生成系统，其特征在于，所述过饱和溶解液体生成装置将加压后的气体供给至所述生成室的气相部分。

3.如权利要求1所述的纳米气泡的生成系统，其特征在于，所述过饱和溶解液体生成装置借助贯通孔将加压后的气体供给至所述生成室的液相部分。

4.如权利要求3所述的纳米气泡的生成系统，其特征在于，所述过饱和溶解液体生成装置兼作所述纳米气泡生成装置。

5.如权利要求1～4中任一项所述的纳米气泡的生成系统，其特征在于，其还具备对所述生成室的液相部分进行搅拌的搅拌装置。

6.如权利要求1～5中任一项所述的纳米气泡的生成系统，其特征在于，其还具备水流产生装置，所述水流产生装置用于促进由所述纳米气泡生成装置生成的纳米气泡从所述纳米气泡生成装置平稳地脱离。

7.如权利要求1～6中任一项所述的纳米气泡的生成系统，其特征在于，所述贯通孔分别以大于开口直径的三倍的距离分隔。

8.如权利要求1～7中任一项所述的纳米气泡的生成系统，其特征在于，所述生成的纳米气泡为单分散。

9.一种纳米气泡的生成方法，其特征在于，其包括下述工序：

以密闭状态将存在于上侧的气相部分和与气相部分的下侧接触的液相部分收容于生成室；

生成气体以过饱和的状态溶解于液相部分而得到的过饱和溶解液体；和

借助具有纳米尺寸的开口直径的贯通孔将加压后的气体供给至所述过饱和溶解液体中，由此生成直径小于1μm的纳米气泡。

10.如权利要求9所述的纳米气泡的生成方法，其特征在于，所述过饱和溶解液体是通过将加压后的气体供给至所述生成室的气相部分而生成的。

11.如权利要求9所述的纳米气泡的生成方法，其特征在于，所述过饱和溶解液体是通过借助贯通孔将加压后的气体供给至所述生成室的液相部分而生成的。

12.如权利要求11所述的纳米气泡的生成方法，其特征在于，所述过饱和溶解液体的生成兼带所述纳米气泡的生成。

13.如权利要求9～12中任一项所述的纳米气泡的生成方法，其特征在于，其还具备下述工序：对所述生成室的液相部分进行搅拌。

14.如权利要求9～13中任一项所述的纳米气泡的生成方法，其特征在于，其还具备下述工序：为了促进所述生成的纳米气泡平稳地脱离而产生水流。

15.如权利要求9～14中任一项所述的纳米气泡的生成方法，其特征在于，所述贯通孔分别以大于开口直径的三倍的距离分隔。

16.如权利要求9～15中任一项所述的纳米气泡的生成方法，其特征在于，所述生成的纳米气泡为单分散。