[发明专利]非氰化物为基础的电化学抛光无效
| 申请号： | 201280039696.8 | 申请日： | 2012-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN103946429A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 纳塔拉詹·拉古地拉玛纳丹;拉真然·嘎纳帕西;库玛·西鲁纳乌卡拉苏·维贾伊;普拉布·帕尼尔 | 申请（专利权）人： | 泰坦股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/16 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 朱健 |
| 地址： | 印度班加罗尔JP格尔*** | 国省代码： | 印度;IN |
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| 摘要： | 一种使用于抛光金属的系统100包括一基座组件102和一电解槽组件130。基座组件102具有一支撑架104，其系安装于一连接组件106。基座组件102更包括一固定圆柱122，其设置有一钩124或类似机制，用于固定一阳极夹具134。使用系统100来抛光金属的程序包括在电解槽组件130的一玻璃烧杯132中提供不含氰化物的退镀溶液，并且将其加热(步骤201)。此外，待抛光的产品利用复数钩138被架设在阳极夹具134上(步骤202)。 | ||
| 搜索关键词： | 氰化物 基础 电化学 抛光 | ||
【主权项】：
一种抛光金属的系统，该系统包含：一电解槽组件，具有：一阳极夹具，其连接至正极端，而且被设置用来接收将被抛光的复数金属；一阴极，其连接至负极端；及一退镀溶液，其被设置用来使该阳极夹具与该阴极之间的离子移动，其中该退镀溶液不含氰化物。
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