[发明专利]非氰化物为基础的电化学抛光

权利要求书

1.一种抛光金属的系统，该系统包含：

一电解槽组件，具有：

一阳极夹具，其连接至正极端，而且被设置用来接收将被抛光的复数金属；

一阴极，其连接至负极端；及

一退镀溶液，其被设置用来使该阳极夹具与该阴极之间的离子移动，

其中该退镀溶液不含氰化物。

2.如权利要求1所述的系统，其中该阳极夹具是选自钛治具。

3.如权利要求1所述的系统，其中该阴极是选自不锈钢。

4.如权利要求1所述的系统，其中该阳极夹具和该阴极的面积维持在1：1的比例。

5.如权利要求1所述的系统，其中该退镀溶液是硫脲为基础的溶液。

6.如权利要求1所述的系统，其中该退镀溶液是硫脲与蒸馏水、还原糖、活化酸及润湿剂至少其中之一者的均匀混合。

7.如权利要求1所述的系统，更包括一洗涤器单元，其与该电解槽组件是以气相交流，其中该洗涤器单元包含：

一球状物，其被设置用来移除在该电解槽组件产生的烟中的酸性物质；及

一洗涤水，其被设置用来移除在该电解槽组件产生的烟中的悬浮粒子。

8.一种抛光金属的方法，该方法包含：

制备一退镀溶液；

预热该退镀溶液；

在该退镀溶液中，提供连接至正极端的阳极和连接至负极端的阴极；及

提供期望电压至阳极和该阴极，

其中

该阳极包括将被抛光的复数金属；及

该退镀溶液不含氰化物。

9.如权利要求8所述的抛光金属的方法，更包括清洗在该抛光金属期间所产生的烟的程序。

10.如权利要求9所述的抛光金属的方法，其中该退镀溶液是硫脲与蒸馏水、还原糖、活化酸及润湿剂至少其中之一者的均匀混合。