[发明专利]蚀刻液及使用其的蚀刻方法无效
| 申请号： | 201280030891.4 | 申请日： | 2012-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN103649271A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 中田卓人;中川义清 | 申请（专利权）人： | 旭化成电子材料株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;G03F7/004;G03F7/32;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 李晓 |
| 地址： | 日本东京都千代田*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供使用铜的氧化物作为热反应型抗蚀剂材料、以激光曝光时，可选择性地蚀刻曝光·未曝光部的氧化铜用蚀刻液、蚀刻速度的控制方法、以及使用了其的蚀刻方法。本发明的蚀刻液是用于从含有价数不同的氧化铜的氧化铜含有层中选择性地除去特定价数的氧化铜的氧化铜蚀刻液，其特征在于，至少含有氨基酸、螫合剂和水，氨基酸的重量比例多于螯合剂，且其pH在3.5以上。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液，是用于从含有价数不同的氧化铜的氧化铜含有层中选择性地除去特定价数的氧化铜的氧化铜蚀刻液，其特征在于，至少含有氨基酸、螯合剂和水，氨基酸的重量比例多于螯合剂，且其pH在3.5以上。
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