[发明专利]蚀刻液及使用其的蚀刻方法无效

专利信息
申请号: 201280030891.4 申请日: 2012-06-27
公开(公告)号: CN103649271A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 中田卓人;中川义清 申请(专利权)人: 旭化成电子材料株式会社
主分类号: C09K13/06 分类号: C09K13/06;G03F7/004;G03F7/32;H01L21/027
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 李晓
地址: 日本东京都千代田*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 使用 方法
【权利要求书】:

1.一种蚀刻液,是用于从含有价数不同的氧化铜的氧化铜含有层中选择性地除去特定价数的氧化铜的氧化铜蚀刻液,其特征在于,至少含有氨基酸、螯合剂和水,氨基酸的重量比例多于螯合剂,且其pH在3.5以上。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液,其中,所述氨基酸含有选自由丙氨酸、精氨酸、天门冬酰胺、天门冬氨酸、半胱氨酸、谷氨酰胺、谷氨酸、甘氨酸、组氨酸、异亮氨酸、亮氨酸、赖氨酸、甲硫氨酸、鸟氨酸、苯丙氨酸、丝氨酸、苏氨酸、色氨酸、酪氨酸及缬氨酸构成的群中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的蚀刻液,其特征在于,所述氨基酸含有选自甘氨酸、丙氨酸、甲硫氨酸及赖氨酸构成的群中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的蚀刻液,其特征在于,所述氨基酸为甘氨酸。

5.根据权利要求1~4任意一项所述的蚀刻液,其特征在于,所述螯合剂含有选自乙酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、α,ω-二胺乙酸、α,ω-二胺琥珀酸、α,ω-二胺丙酸、1,2-二氨基丙烷四乙酸、柠檬酸、异柠檬酸、富马酸、马来酸、谷氨酸、苹果酸、酒石酸、浴酮灵二磺酸及它们的盐、以及氨、联吡啶、菲咯啉及它们的衍生物构成的群中的至少一种。

6.根据权利要求1~4任意一项所述的蚀刻液,其特征在于,所述螯合剂含有选自由草酸、乙酸铵、草酸铵、丙二酸铵、琥珀酸铵、柠檬酸、苹果酸、酒石酸构成的群中的至少一种。

7.根据权利要求1~4任意一项所述的蚀刻液,其特征在于,所述螯合剂含有选自由乙酸铵、草酸铵、丙二酸铵及琥珀酸铵构成的群中的至少一种。

8.根据权利要求1~4任意一项所述的蚀刻液,其特征在于,所述螯合剂为草酸铵。

9.根据权利要求1~8任意一项所述的蚀刻液,其特征在于,蚀刻液中的所述氨基酸的比例在0.01重量%以上、10重量%以下。

10.根据权利要求1~9任意一项所述的蚀刻液,其特征在于,蚀刻液中的所述螯合剂的比例在0.01重量%以上、10重量%以下的范围,且在所述的氨基酸的比例以下。

11.根据权利要求1~10任意一项所述的蚀刻液,其特征在于,所述氧化铜含有层至少具有包含被热分解的铜的氧化物的区域。

12.一种蚀刻方法,是使用权利要求1~11任意一项所述的蚀刻液的蚀刻方法,其特征在于,包括热分解工序和蚀刻工序,

所述热分解工序是将含有铜的氧化物的氧化铜含有层中的铜的氧化物进行热分解的工序;

所述蚀刻工序是向所述氧化铜含有层供应所述蚀刻液,从所述氧化铜含有层除去被热分解的铜的氧化物的工序。

13.根据权利要求12所述的蚀刻方法,其特征在于,所述氧化铜含有层的热分解通过向所述氧化铜含有层照射激光而进行。

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