[发明专利]投射设备

摘要

一种用于使光刻结构信息成像的投射设备(1)，包含：光学元件(2)，其至少部分具有由导电层材料构成的涂层(14)。涂层(14)包含连续区域(100)，该连续区域不具有遮挡投射光的元件。在该情况下，取决于温度变化，层材料和/或光学元件(2)改变光学特性，尤其是折射率或光学路径长度。提供至少一个单元(3)，用于将能量耦合进层材料中，该至少一个单元耦合能量使得层材料将耦合的能量转变为热能。层材料可包含石墨烯、铬和硫化钼(MoS2)。

主权项

1.一种投射设备(1)，包含：光学元件(2)；包括连续区域的涂层，由所述光学元件支撑，所述涂层包括从由石墨烯、铬和MoS2构成的组中选择的导电材料；以及耦合单元(3)，构造成在设备使用期间将能量耦合进所述导电材料中，使得所述导电材料将耦合的能量转变为热能，从而在连续区域中产生期望的几何温度分布，其中，所述投射设备是光刻投射设备，其构造成在设备使用期间，投射光完全在所述涂层的连续区域内照在所述涂层上；所述涂层的连续区域不具有在设备使用期间遮挡投射光的元件；取决于温度变化，从由导电材料和光学元件构成的组中选择的至少一个成员改变光学特性；光学元件的整个光学使用区域由导电材料覆盖，其中，所述连续区域直接在光学元件上借助化学气相沉积而产生。