[发明专利]厚膜压敏粘合剂及由其制得的层合结构无效

专利信息
申请号: 201280026873.9 申请日: 2012-05-31
公开(公告)号: CN103764784A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 罗伯特·A·埃克兰德;权敏姬;禹荣修 申请(专利权)人: 道康宁公司;道康宁韩国有限公司
主分类号: C09J183/04 分类号: C09J183/04;C09J183/05;C09J183/07
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 高瑜;郑霞
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种压敏粘合剂(PSA)制剂,其可成型和固化成厚膜而不牺牲性能。所述PSA制剂在未固化态和固化态下均显示出至少80%的光学透射率。本发明提供了一种PSA层合结构,其中所述PSA制剂具有Si-H:乙烯基比例和涂层厚度,所述Si-H:乙烯基比例和涂层厚度提供脱离施用至背衬片材或衬垫的氟硅氧烷剥离涂层的极稳定的低的剥离力。
搜索关键词: 厚膜压敏 粘合剂 结构
【主权项】:
一种压敏粘合剂(PSA)制剂,其能够成型并固化成厚膜而不牺牲总体性能,所述PSA制剂包含:至少一种MQ树脂[组分A];至少一种乙烯基官能化的有机硅氧烷聚合物[组分B、C];至少一种有机氢硅化合物[组分D];氢化硅烷化催化剂[组分E];和至少一种抑制剂[组分F];其中所述PSA制剂具有未固化态和经固化态;所述PSA制剂能够形成所述未固化态的膜,所述未固化态的膜在所述经固化态下具有100微米或更大的厚度;所述PSA制剂在所述经固化态显示出至少80%的光学透射率。
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