[发明专利]厚膜压敏粘合剂及由其制得的层合结构无效

专利信息
申请号: 201280026873.9 申请日: 2012-05-31
公开(公告)号: CN103764784A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 罗伯特·A·埃克兰德;权敏姬;禹荣修 申请(专利权)人: 道康宁公司;道康宁韩国有限公司
主分类号: C09J183/04 分类号: C09J183/04;C09J183/05;C09J183/07
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 高瑜;郑霞
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 厚膜压敏 粘合剂 结构
【权利要求书】:

1.一种压敏粘合剂(PSA)制剂,其能够成型并固化成厚膜而不牺牲总体性能,所述PSA制剂包含:

至少一种MQ树脂[组分A];

至少一种乙烯基官能化的有机硅氧烷聚合物[组分B、C];

至少一种有机氢硅化合物[组分D];

氢化硅烷化催化剂[组分E];和

至少一种抑制剂[组分F];

其中所述PSA制剂具有未固化态和经固化态;所述PSA制剂能够形成所述未固化态的膜,所述未固化态的膜在所述经固化态下具有100微米或更大的厚度;所述PSA制剂在所述经固化态显示出至少80%的光学透射率。

2.根据权利要求1所述的PSA制剂,其中所述PSA制剂还包含选自如下的组中的至少一种:

具有二甲基乙烯基封端部分的高分子量二甲基甲基乙烯基硅氧烷共聚物[组分G];

溶剂[组分H],

烯烃稀释剂[组分J];和

环氧官能化的三甲氧基硅烷[组分K]。

3.根据权利要求1所述的PSA制剂,其中所述PSA制剂包含至少两种MQ树脂;第二MQ树脂含有预定量的乙烯基官能团和烷基[组分I]。

4.根据权利要求1所述的PSA制剂,其中所述MQ树脂包含R3SiO1/2(M单元)和SiO4/2(Q单元)的混合物,所述R基团为烷基;

其中所述MQ树脂具有0.6至1.2的M/Q比例和至多5重量%的硅烷醇官能团。

5.根据权利要求1所述的PSA制剂,其中所述乙烯基官能化的有机硅氧烷聚合物包含:

显示出大于400,000amu的重均分子量(组分B)或下限为12,000amu的小于400,000amu的重均分子量(组分C)、和在0.01wt.%至0.4wt.%范围内的乙烯基官能团的量的聚合物。

6.根据权利要求1所述的PSA制剂,其中所述PSA制剂具有1:1至10:1范围之间的在所述有机氢硅化合物中的Si-H键与在所述乙烯基官能化的有机硅氧烷聚合物中的Si-乙烯基键的比例。

7.根据权利要求1所述的PSA制剂,其中当所述PSA制剂以所述未固化态施用至隔离衬垫,且然后进行固化时,其具有湿润侧和干燥侧;

其中当以3米/分钟的速率拉引时,所述经固化态的经施用的PSA制剂在所述湿润侧和所述干燥侧上分别显示出6g/2.5cm至44g/2.5cm和5g/2.5cm至33g/2.5cm的剥离力。

8.一种显示出高光学透射率的厚膜压敏粘合剂(PSA)层压制品,所述层压制品包含:

至少一种背衬片材;

与所述背衬片材接触的氟硅氧烷剥离涂层;和

与所述剥离涂层接触的PSA膜,所述PSA膜具有未固化态和经固化态,所述PSA膜包含:

至少一种MQ树脂[组分A];

至少一种乙烯基官能化的有机硅氧烷聚合物[组分B、C];

至少一种有机氢硅化合物[组分D];

氢化硅烷化催化剂[组分E];和

至少一种抑制剂[组分F];

其中所述PSA膜以所述未固化态施用至衬垫,并在所述经固化态具有100微米或更大的厚度;所述PSA膜在所述经固化态显示出至少80%的光学透射率。

9.根据权利要求8所述的PSA层压制品,其中当所述PSA膜以所述未固化态施用至隔离衬垫,且然后进行固化时,其具有湿润侧和干燥侧;

其中当以3米/分钟的速率拉引时,所述经固化态的经施用的PSA膜在所述湿润侧和所述干燥侧上分别显示出6g/2.5cm至45g/2.5cm和5g/2.5cm至37g/2.5cm的剥离力。

10.根据权利要求9所述的PSA层压制品,其中当以3米/分钟的速率拉引时,所述湿润侧的剥离力在7g/2.5cm至35g/2.5cm范围之间,所述干燥侧的剥离力在5g/2.5cm至12g/2.5cm范围内。

11.根据权利要求8所述的PSA层压制品,其中所述PSA膜还包含选自如下的组中的至少一种:

具有二甲基乙烯基封端部分的高分子量二甲基甲基乙烯基硅氧烷共聚物[组分G];

溶剂[组分H],

烯烃稀释剂[组分J];和

环氧官能化的三甲氧基硅烷[组分K]。

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