[发明专利]利用非均匀隔片的成像阵列的系统、方法和装置无效
| 申请号： | 201280018574.0 | 申请日： | 2012-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN103492907A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | P·R·蒙格 | 申请（专利权）人： | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/20 | 分类号： | G01T1/20;G01N23/04 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 徐舒 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种成像阵列具有多个成像像素、多个非均匀隔片、一个轴向中心以及一个径向外缘。这些隔片被置于该阵列中，使得在相邻的成像像素之间有一个隔片。这些隔片的至少一个参数从该阵列的中心至外缘变化至少一次。该参数可以从该中心至该外缘增加。该参数可以包含这些隔片的密度或原子序数。可替代地，这些隔片的参数可以是相对于该中心变化的它们的径向厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 均匀 成像 阵列 系统 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种成像阵列，包含：多个成像像素，这些成像像素形成一个阵列，该阵列具有一个高能量端、一个光出射端、一个轴向中心以及一个径向外缘；多个隔片，这些隔片被置于该阵列中，使得在相邻的成像像素之间有一个隔片；并且这些隔片的至少一个参数从邻近该阵列的轴向中心的隔片至邻近该阵列的径向外缘的隔片变化至少一次。
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