[发明专利]利用非均匀隔片的成像阵列的系统、方法和装置无效

专利信息
申请号: 201280018574.0 申请日: 2012-03-02
公开(公告)号: CN103492907A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: P·R·蒙格 申请(专利权)人: 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20;G01N23/04
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 徐舒
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 利用 均匀 成像 阵列 系统 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种成像阵列,包含:

多个成像像素,这些成像像素形成一个阵列,该阵列具有一个高能量端、一个光出射端、一个轴向中心以及一个径向外缘;

多个隔片,这些隔片被置于该阵列中,使得在相邻的成像像素之间有一个隔片;并且

这些隔片的至少一个参数从邻近该阵列的轴向中心的隔片至邻近该阵列的径向外缘的隔片变化至少一次。

2.一种闪烁体像素阵列,包含:

多个闪烁像素,这些闪烁像素形成一个阵列,该阵列具有一个高能量端、一个光出射端、一个轴向中心以及一个径向外缘;

多个隔片,这些隔片以层形式置于该阵列中,使得在相邻的闪烁像素之间有一个隔片;并且

这些隔片的至少一个物理参数从邻近该阵列的轴向中心的隔片的层至邻近该阵列的径向外缘的隔片的层随着隔片的每一层而变化。

3.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片的至少一个参数从该轴向中心至该径向外缘增加。

4.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片的至少一个参数是这些隔片的密度。

5.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片的至少一个参数是这些隔片的原子序数。

6.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片包含多种材料。

7.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片包含由至少两种不同材料形成的至少四个层。

8.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片的每一个具有一个相对于该轴向中心的径向厚度,并且这些隔片的至少一个参数是这些隔片的径向厚度。

9.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片具有一个近似于这些成像像素之一的径向厚度的十分之一的平均径向厚度。

10.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片包含选自由聚四氟乙烯(PTFE)、铝、铜、钨、环氧树脂、硅橡胶、聚酯、聚乙烯、介电聚合物薄膜、银、金、钽和铅组成的组中的至少两种不同材料。

11.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,至少一些隔片被涂成白色以提高反射率。

12.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,至少一些隔片是通过粉末形成的。

13.根据权利要求12所述的阵列,其中,该粉末位于相邻像素之间的一个空间中并在其中具有一个体积填充因子,并且该粉末的密度基于该体积填充因子是可调的。

14.根据权利要求13所述的阵列,其中,该粉末包含均匀大小的颗粒。

15.根据权利要求13所述的阵列,其中,该粉末包含均匀大小的颗粒和相对更小的颗粒以增加该体积填充因子。

16.根据权利要求12所述的阵列,其中,该粉末具有一个有效原子数,该有效原子数通过以不同比例将不同粉末混合在一起而是可调的。

17.根据权利要求13所述的阵列,其中,该粉末被混合至环氧树脂、油漆或树脂中。

18.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,改变这些隔片的所述至少一个参数减少了这些隔片之间的杂散能量透射并且改进了该光出射端处的图像。

19.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片的至少一个物理参数从该轴向中心至该径向外缘单调增加。

20.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片包含多个以正交模式配置的材料。

21.根据权利要求1或2所述的阵列,其中,这些隔片包括至少四个层,每个层由一种不同类型的材料形成。

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