[发明专利]半导体器件有效
| 申请号: | 201280010887.1 | 申请日: | 2012-01-20 |
| 公开(公告)号: | CN103403848A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
| 发明(设计)人: | 石桥忠夫;安藤精后;村本好史;吉松俊英;横山春喜 | 申请(专利权)人: | NTT电子股份有限公司;日本电信电话株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/331 | 分类号: | H01L21/331;G02F1/017;H01L29/737;H01L31/10 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 高科 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明的目的在于,提供可以缩小器件尺寸、降低串联电阻和抑制泄漏电流的半导体器件。本发明正是把器件动作本来不需要的电位阶差产生层插入器件的结构内。该电位阶差具有这样的功能,即,即使带隙小的半导体在台面侧面露出,也可以抑制该部分的电压降,减小对器件动作不合适的泄漏电流。异质结构双极晶体管、光电二极管和电场吸收型光调制器等都可以得到该效果。另外,在光电二极管中,由于泄漏电流缓和,所以可以缩小器件的尺寸,不仅可以通过降低串联电阻改善动作速度,还具有可以高密度地阵列状地配置器件的优点。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,在衬底的一侧与上述衬底面平行地层叠了第1半导体层、p型的第2半导体层、n型的第3半导体层、以及n型的第4半导体层和p型的第5半导体层中的至少一层,其特征在于:上述第1半导体层配置在上述第2半导体层与上述第3半导体层之间,杂质浓度比上述第2半导体层和上述第3半导体层低;上述第4半导体层配置在上述第1半导体层与上述第2半导体层之间,带隙比上述第1半导体层大;上述第5半导体层配置在上述第1半导体层与上述第3半导体层之间,带隙比上述第1半导体层大;上述第2半导体层比上述第3半导体层离上述衬底远时,必须有上述第4半导体层,上述第2半导体层的外周在上述第4半导体层的外周的更内侧;上述第3半导体层比上述第2半导体层离上述衬底远时,必须有上述第5半导体层,上述第3半导体层的外周在上述第5半导体层的外周的更内侧。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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