[发明专利]半导体层叠基板、半导体芯片和半导体层叠基板的制造方法无效
| 申请号: | 201280002304.0 | 申请日: | 2012-04-19 |
| 公开(公告)号: | CN103053013A | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
| 发明(设计)人: | 岩永顺子;崔成伯;横川俊哉 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/205 | 分类号: | H01L21/205;H01L33/32 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 一种半导体层叠基板,半导体层叠基板具备:基板,和具有不同于基板的热膨胀系数、在基板的上表面的多个区域形成的多个半导体层。各区域的半导体层具有作为非极性面或半极性面的生长面,沿着与基板的上表面平行、且相互垂直的第一轴和第二轴,具有不同的热膨胀系数。将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与第一轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D1和ρ1。并且将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与第二轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D2和ρ2时,D1、ρ1、D2和ρ2满足式1。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 层叠 芯片 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体层叠基板,其特征在于,包括:基板;和多个半导体层,所述半导体层具有与所述基板不同的热膨胀系数,形成于所述基板的上表面的多个区域,各所述区域的半导体层具有作为非极性面或半极性面的生长面,沿着与所述基板的上表面平行、且相互垂直的第一轴和第二轴具有不同的热膨胀系数,将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与所述第一轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D1和ρ1,将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与所述第二轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D2和ρ2时,D1、ρ1、D2和ρ2满足下述式1,式1 0.8 D 1 ≤ D 2 ρ 1 ρ 2 ≤ 1.2 D 1 .
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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