[发明专利]半导体层叠基板、半导体芯片和半导体层叠基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 201280002304.0 申请日: 2012-04-19
公开(公告)号: CN103053013A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 岩永顺子;崔成伯;横川俊哉 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/205 分类号: H01L21/205;H01L33/32
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种半导体层叠基板,半导体层叠基板具备:基板,和具有不同于基板的热膨胀系数、在基板的上表面的多个区域形成的多个半导体层。各区域的半导体层具有作为非极性面或半极性面的生长面,沿着与基板的上表面平行、且相互垂直的第一轴和第二轴,具有不同的热膨胀系数。将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与第一轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D1和ρ1。并且将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与第二轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D2和ρ2时,D1、ρ1、D2和ρ2满足式1。
搜索关键词: 半导体 层叠 芯片 制造 方法
【主权项】:
一种半导体层叠基板,其特征在于,包括:基板;和多个半导体层,所述半导体层具有与所述基板不同的热膨胀系数,形成于所述基板的上表面的多个区域,各所述区域的半导体层具有作为非极性面或半极性面的生长面,沿着与所述基板的上表面平行、且相互垂直的第一轴和第二轴具有不同的热膨胀系数,将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与所述第一轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D1和ρ1,将通过该半导体层的弯曲量最大的点、与所述第二轴平行的方向的该半导体层的长度和曲率半径设为D2和ρ2时,D1、ρ1、D2和ρ2满足下述式1,式1 0.8 D 1 D 2 ρ 1 ρ 2 1.2 D 1 .
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