[实用新型]反应腔室有效
| 申请号： | 201220735707.3 | 申请日： | 2012-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN203007403U | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 黄允文;李王俊 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种反应腔室，所述反应腔室包括：腔体；设置于所述腔体内的托盘；设置于所述腔体内的旋转结构，所述旋转结构通过筒状侧壁与所述托盘连接，所述旋转结构、托盘及筒状侧壁形成了一容置空间；设置于所述容置空间内用于加热所述托盘的加热器；及设置于所述容置空间内的隔热结构，所述隔热结构设置于所述加热器和旋转结构之间。在本实用新型提供的反应腔室中，所述隔热结构至少减少所述加热器和旋转结构之间的热交换，从而所述旋转结构不易损坏、使用寿命较长，从而能够降低设备维护投入。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 | ||
【主权项】：
一种反应腔室，其特征在于，包括：腔体；设置于所述腔体内的托盘；设置于所述腔体内的旋转结构，所述旋转结构通过筒状侧壁与所述托盘连接，所述旋转结构、托盘及筒状侧壁形成了一容置空间；设置于所述容置空间内用于加热所述托盘的加热器；及设置于所述容置空间内的隔热结构，所述隔热结构设置于所述加热器和旋转结构之间。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
