[实用新型]一种硅芯清洗用主副槽装置有效
| 申请号： | 201220630725.5 | 申请日： | 2012-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN203018413U | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 左国军 | 申请（专利权）人： | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00 |
| 代理公司： | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人： | 胡朝阳;孙洁敏 |
| 地址： | 213125 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种硅芯清洗用主副槽装置，包括主槽和副槽，所述的主槽和副槽上下设置，中间通过隔板隔开，所述的主槽槽体上部设有第一溢流槽盒，主槽槽体侧壁设有与第一溢流槽盒相通的溢流孔，第一溢流槽盒下方设有一第二溢流槽盒，第一溢流槽盒底板上设有与第二溢流槽连通的溢流孔，第二溢流槽底部设在所述的隔板上，并通过溢流口与副槽连通，所述的副槽设有废水排放口。本实用新型将主、副槽一体化设计，中间用隔板隔开，这样在结构上设计更加简单，节省了原材料，同时减小了硅芯清洗机的整体体积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 用主副槽 装置 | ||
【主权项】：
一种硅芯清洗用主副槽装置，包括主槽（1）和副槽（2），其特征在于：所述的主槽和副槽上下设置，中间通过隔板（8）隔开，所述的主槽槽体上部设有第一溢流槽盒（3），主槽槽体侧壁设有与第一溢流槽盒相通的溢流孔（33），第一溢流槽盒下方设有一第二溢流槽盒（4），第一溢流槽盒底板上设有与第二溢流槽连通的溢流孔（31），第二溢流槽底部设在所述的隔板上，并通过溢流口（41）与副槽连通，所述的副槽设有废水排放口（22）。
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